| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| §1.1 超薄碳薄膜的研究进展 | 第9-14页 |
| §1.2 富硅碳化硅薄膜的研究进展 | 第14-19页 |
| §1.3 本文研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验方法 | 第21-29页 |
| §2.1 甚高频、射频磁控溅射实验装置与实验条件 | 第21-23页 |
| §2.2 薄膜结构及性能的测量分析方法 | 第23-27页 |
| ·原子力显微镜（AFM）分析 | 第23-24页 |
| ·x射线光电子能谱（XPS）分析 | 第24页 |
| ·傅里叶变换红外光谱（FTIR）分析 | 第24-25页 |
| ·X射线衍射（XRD）分析 | 第25-26页 |
| ·光谱椭偏（EP）测量 | 第26页 |
| ·水接触角分析 | 第26-27页 |
| §2.3 拒斥场能量分析仪（RFEA）测量溅射离子能量 | 第27-29页 |
| 第三章 驱动频率对碳薄膜沉积与结构的影响 | 第29-43页 |
| §3.1 碳薄膜的膜厚与沉积速率 | 第29-30页 |
| §3.2 碳薄膜微观结构的AFM分析 | 第30-37页 |
| §3.3 碳薄膜结晶结构的XRD分析 | 第37-40页 |
| §3.4 碳薄膜键结构的FTIR分析 | 第40-43页 |
| 第四章 驱动频率对碳化硅薄膜沉积与性能的影响 | 第43-62页 |
| §4.1 碳化硅薄膜的沉积速率 | 第43-44页 |
| §4.2 碳化硅薄膜成分的XPS分析 | 第44-49页 |
| §4.3 碳化硅薄膜微观结构的AFM分析 | 第49-55页 |
| §4.4 碳化硅薄膜键结构的FTIR分析 | 第55-58页 |
| §4.5 碳化硅薄膜的水接触分析 | 第58-60页 |
| §4.6 碳化硅薄膜溅射沉积的离子能量关联 | 第60-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-64页 |
| §5.1 本文的主要研究结果 | 第62-63页 |
| §5.2 存在的问题和进一步研究方向 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |