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单分散纳米氢氧化镁晶须形成机制研究

摘要第1-8页
Abstract第8-13页
第1章 绪论第13-25页
   ·镁资源概况及应用现状第13-15页
     ·镁资源概况第13-14页
     ·镁资源的开发利用现状第14-15页
   ·氢氧化镁阻燃剂的研究现状第15-17页
     ·氢氧化镁的理化性质第15页
     ·氢氧化镁的阻燃机理第15-16页
     ·氢氧化镁阻燃剂的国内外研究现状第16-17页
   ·纳米氢氧化镁晶须第17-19页
     ·纳米氢氧化镁晶须简介第17-18页
     ·纳米氢氧化镁晶须的制备方法第18-19页
   ·氢氧化镁晶须的形成机制第19-23页
     ·经典晶体生长理论第20-21页
     ·负离子配位多面体生长基元理论第21页
     ·螺旋位错生长机制第21-22页
     ·气液固(VLS)生长机制第22页
     ·液固(LS)生长机制第22-23页
     ·模板生长机制第23页
     ·诱导生长机制第23页
   ·论文的研究目的、意义及内容第23-25页
     ·研究目的及意义第23-24页
     ·研究内容第24-25页
第2章 实验部分第25-32页
   ·实验原料与仪器设备第25-28页
     ·实验原料第25-28页
     ·实验试剂第28页
     ·实验仪器设备第28页
   ·实验原理及方案第28-30页
     ·实验原理第28页
     ·实验方法第28-29页
     ·工艺流程第29-30页
   ·纳米氢氧化镁晶须性能测试第30-32页
     ·OH~-、SO_4~(2-)离子浓度的测定第30页
     ·形貌表征第30-31页
     ·表面元素检测第31页
     ·物相检测第31页
     ·表面基团检测第31页
     ·热稳定性检测第31页
     ·分散性表征第31-32页
第3章 纳米氢氧化镁晶须制备工艺研究第32-68页
   ·工艺参数对产物性能的影响第32-60页
     ·MOS初始料浆浓度对产物性能的影响第32-37页
     ·Na OH/MOS摩尔比对产物性能的影响第37-40页
     ·反应温度对产物性能的影响第40-44页
     ·反应时间对产物性能的影响第44-48页
     ·搅拌转速对产物性能的影响第48-51页
     ·助剂对产物性能的影响第51-57页
     ·MOS前驱物性能对产物性能的影响第57-60页
   ·产物性能的综合分析第60-66页
     ·产物的综合形貌分析第60-62页
     ·产物的X射线衍射分析第62-63页
     ·产物的能谱分析第63页
     ·产物的红外光谱分析第63-64页
     ·产物的差热-热重分析第64-66页
   ·本章小结第66-68页
第4章 纳米氢氧化镁晶须形成机制研究第68-73页
   ·水热过程晶须生长的动力学模型第68-71页
   ·单分散纳米氢氧化镁晶须的形成机制探讨第71-73页
结论第73-75页
参考文献第75-80页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第80-81页
致谢第81-82页
附录第82-84页

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