单分散纳米氢氧化镁晶须形成机制研究
摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-13页 |
第1章 绪论 | 第13-25页 |
·镁资源概况及应用现状 | 第13-15页 |
·镁资源概况 | 第13-14页 |
·镁资源的开发利用现状 | 第14-15页 |
·氢氧化镁阻燃剂的研究现状 | 第15-17页 |
·氢氧化镁的理化性质 | 第15页 |
·氢氧化镁的阻燃机理 | 第15-16页 |
·氢氧化镁阻燃剂的国内外研究现状 | 第16-17页 |
·纳米氢氧化镁晶须 | 第17-19页 |
·纳米氢氧化镁晶须简介 | 第17-18页 |
·纳米氢氧化镁晶须的制备方法 | 第18-19页 |
·氢氧化镁晶须的形成机制 | 第19-23页 |
·经典晶体生长理论 | 第20-21页 |
·负离子配位多面体生长基元理论 | 第21页 |
·螺旋位错生长机制 | 第21-22页 |
·气液固(VLS)生长机制 | 第22页 |
·液固(LS)生长机制 | 第22-23页 |
·模板生长机制 | 第23页 |
·诱导生长机制 | 第23页 |
·论文的研究目的、意义及内容 | 第23-25页 |
·研究目的及意义 | 第23-24页 |
·研究内容 | 第24-25页 |
第2章 实验部分 | 第25-32页 |
·实验原料与仪器设备 | 第25-28页 |
·实验原料 | 第25-28页 |
·实验试剂 | 第28页 |
·实验仪器设备 | 第28页 |
·实验原理及方案 | 第28-30页 |
·实验原理 | 第28页 |
·实验方法 | 第28-29页 |
·工艺流程 | 第29-30页 |
·纳米氢氧化镁晶须性能测试 | 第30-32页 |
·OH~-、SO_4~(2-)离子浓度的测定 | 第30页 |
·形貌表征 | 第30-31页 |
·表面元素检测 | 第31页 |
·物相检测 | 第31页 |
·表面基团检测 | 第31页 |
·热稳定性检测 | 第31页 |
·分散性表征 | 第31-32页 |
第3章 纳米氢氧化镁晶须制备工艺研究 | 第32-68页 |
·工艺参数对产物性能的影响 | 第32-60页 |
·MOS初始料浆浓度对产物性能的影响 | 第32-37页 |
·Na OH/MOS摩尔比对产物性能的影响 | 第37-40页 |
·反应温度对产物性能的影响 | 第40-44页 |
·反应时间对产物性能的影响 | 第44-48页 |
·搅拌转速对产物性能的影响 | 第48-51页 |
·助剂对产物性能的影响 | 第51-57页 |
·MOS前驱物性能对产物性能的影响 | 第57-60页 |
·产物性能的综合分析 | 第60-66页 |
·产物的综合形貌分析 | 第60-62页 |
·产物的X射线衍射分析 | 第62-63页 |
·产物的能谱分析 | 第63页 |
·产物的红外光谱分析 | 第63-64页 |
·产物的差热-热重分析 | 第64-66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
第4章 纳米氢氧化镁晶须形成机制研究 | 第68-73页 |
·水热过程晶须生长的动力学模型 | 第68-71页 |
·单分散纳米氢氧化镁晶须的形成机制探讨 | 第71-73页 |
结论 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-80页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第80-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
附录 | 第82-84页 |