摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-21页 |
·晶须 | 第9-11页 |
·晶须概念及分类 | 第9页 |
·晶须研究进展 | 第9-10页 |
·常见无机盐晶须 | 第10-11页 |
·晶须生长机理 | 第11-13页 |
·螺旋位错生长机理 | 第11-12页 |
·气液固(VLS)生长机理[29‐31] | 第12页 |
·气固(VS)生长机理 | 第12-13页 |
·液固(LS)生长机理 | 第13页 |
·其它生长机理 | 第13页 |
·碱式硫酸镁晶须 | 第13-16页 |
·碱式硫酸镁晶须分类 | 第13-14页 |
·碱式硫酸镁晶须的研究现状 | 第14-15页 |
·碱式硫酸镁晶须的应用 | 第15-16页 |
·无机粉体表面改性 | 第16-19页 |
·无机粉体表面改性方法[65] | 第16-17页 |
·无机粉体改性效果的表征 | 第17-18页 |
·无机镁盐晶须改性研究进展 | 第18-19页 |
·本文研究的目的和意义 | 第19-21页 |
2 实验部分 | 第21-26页 |
·原料与试剂 | 第21页 |
·仪器与设备 | 第21-22页 |
·产品制备实验步骤 | 第22-23页 |
·碱式硫酸镁晶须的制备 | 第22-23页 |
·不同种类添加剂对晶须制备的影响 | 第23页 |
·晶须的表面改性 | 第23页 |
·实验表征 | 第23-26页 |
·扫描电子显微镜(SEM)及 X 射线能谱仪(EDX) | 第23-24页 |
·透射电子显微镜(TEM)及选区电子衍射(SAED) | 第24页 |
·X 射线衍射仪(XRD) | 第24页 |
·傅里叶红外光谱仪(FT‐IR) | 第24页 |
·表面接触角测定 | 第24页 |
·光致发光光谱(PL) | 第24页 |
·晶须的化学表征[106‐108] | 第24-26页 |
3 不同反应体系制备碱式硫酸镁晶须 | 第26-41页 |
·引言 | 第26页 |
·以 MgSO_4‐MgCl_2为镁源制备碱式硫酸镁晶须 | 第26-33页 |
·碱源的影响 | 第26-27页 |
·MgSO_4与 MgCl_2摩尔比的影响 | 第27-30页 |
·碱源浓度的影响 | 第30-33页 |
·MgSO_4‐NaOH 体系制备碱式硫酸镁晶须 | 第33-39页 |
·反应原料配比的影响 | 第33-35页 |
·镁离子浓度的影响 | 第35-37页 |
·水热反应时间的影响 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
4 添加剂对 152MHSH 晶须合成的影响 | 第41-56页 |
·引言 | 第41页 |
·醇类添加剂对于 152MHSH 晶须合成的影响 | 第41-47页 |
·152MHSH 晶须产物的形貌表征 | 第42-43页 |
·152MHSH 晶须产物的物相结构表征 | 第43-44页 |
·152MHSH 晶须产物的成分表征 | 第44-45页 |
·152MHSH 晶须产物的结构表征 | 第45页 |
·152MHSH 晶须产物的生长机理研究 | 第45-47页 |
·152MHSH 晶须产物的光致发光性能 | 第47页 |
·酸类添加剂对 152MHSH 晶须合成的影响 | 第47-51页 |
·152MHSH 晶须产物的形貌表征 | 第48-49页 |
·152MHSH 晶须产物的物相结构表征 | 第49-50页 |
·152MHSH 晶须产物的成分表征 | 第50-51页 |
·152MHSH 晶须产物的光致发光性能 | 第51页 |
·聚合物类添加剂对 152MHSH 晶须合成的影响 | 第51-55页 |
·152MHSH 晶须产物的形貌表征 | 第52-53页 |
·152MHSH 晶须产物的物相结构表征 | 第53页 |
·152MHSH 晶须产物的成分表征 | 第53-54页 |
·152MHSH 晶须产物的光致发光性能 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
5 碱式硫酸镁晶须的疏水改性 | 第56-65页 |
·引言 | 第56页 |
·结果与讨论 | 第56-64页 |
·不同改性剂改性处理接触角变化趋势 | 第56-59页 |
·改性处理前后产物物相变化 | 第59-60页 |
·改性处理前后产物形貌变化 | 第60-62页 |
·改性处理前后产物的化学组成 | 第62-63页 |
·AC‐FAS 疏水改性 152MHSH 晶须的机理示意图 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
结论 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文及获奖目录 | 第73-74页 |