| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-26页 |
| ·铁电体的概念和性质 | 第13-14页 |
| ·铁电材料的分类 | 第14-17页 |
| ·多铁性材料 | 第17-20页 |
| ·单相多铁性材料BiFeO_3 | 第20-23页 |
| ·本课题的研究对象和主要内容 | 第23-26页 |
| 第2章 实验方案的设计 | 第26-30页 |
| ·实验药品和所用设备 | 第26页 |
| ·铁酸铋薄膜制备过程 | 第26-28页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第28-30页 |
| 第3章 ITO基片的分析与表征 | 第30-34页 |
| ·ITO基片的XRD表征 | 第30页 |
| ·ITO基片的SEM表征 | 第30-31页 |
| ·ITO薄膜的导电性能 | 第31页 |
| ·BFO薄膜在ITO上异质外延生长的可能性 | 第31-32页 |
| ·BFO薄膜本身的特点 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 工艺条件对铁酸铋薄膜结构的影响 | 第34-42页 |
| ·薄膜厚度对BiFeO_3薄膜的影响 | 第34-35页 |
| ·退火方式对BiFeO_3薄膜的影响 | 第35-37页 |
| ·退火温度对BiFeO_3薄膜的影响 | 第37-38页 |
| ·铋过量对BiFeO_3薄膜的影响 | 第38-39页 |
| ·本章结论 | 第39-42页 |
| 第5章 BiFe_(1-x)Zr_xO_3薄膜的制备与电学性能研究 | 第42-47页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·BiFe_(1-x)Zr_xO_3薄膜的晶体结构 | 第42-43页 |
| ·BiFe_(1-x)Zr_xO_3薄膜的表面形貌 | 第43-44页 |
| ·BiFe_(1-x)Zr_xO_3薄膜的漏电流 | 第44-45页 |
| ·BiFe_(1-x)Zr_xO_3薄膜的电滞回线 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第6章 Bi_(1-x)Sm_xFeO_3薄膜的制备与电学性能研究 | 第47-53页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·Bi_(1-x)Sm_xFeO_3薄膜的晶体结构 | 第48-49页 |
| ·Bi_(1-x)Sm_xFeO_3薄膜的形貌分析 | 第49页 |
| ·Bi-(1-x)Sm_xFeO_3薄膜的电滞回线 | 第49-50页 |
| ·Bi-(1-x)Sm_xFeO_3薄膜的漏电流 | 第50-51页 |
| ·本章结论 | 第51-53页 |
| 第7章 结论 | 第53-57页 |
| ·研究成果的总结 | 第53-56页 |
| ·待解决问题 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 后记 | 第61-62页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第62页 |
