| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| ·TiO_2目前研究应用状况 | 第10页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第12-14页 |
| ·本文主要的研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 稀土离子掺杂与薄膜生长 | 第16-25页 |
| ·稀土元素 | 第16-19页 |
| ·稀土元素简介 | 第16-18页 |
| ·稀土元素掺杂发光 | 第18-19页 |
| ·薄膜生长 | 第19-25页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第19-21页 |
| ·薄膜的生长模式与条件 | 第21-24页 |
| ·射频磁控溅射法生长TiO_2薄膜 | 第24-25页 |
| 第3章 TiO_2薄膜的制备方法和表征手段 | 第25-35页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第25-29页 |
| ·几种常见的薄膜制备方法 | 第25-27页 |
| ·溅射镀膜法 | 第27-29页 |
| ·TiO_2薄膜的特性表征 | 第29-35页 |
| ·AFM用于表面形貌分析 | 第29-30页 |
| ·XRD用于结晶状况和晶体结构分析 | 第30-31页 |
| ·RBS用于元素分析 | 第31-33页 |
| ·分光光度计用于薄膜光学常数测定 | 第33-35页 |
| 第4章 制备工艺对TiO_2薄膜结构及光学性质的影响 | 第35-48页 |
| ·溅射气压对薄膜结构特性的影响 | 第35-38页 |
| ·实验过程 | 第35页 |
| ·实验结果与讨论 | 第35-38页 |
| ·退火温度对薄膜结晶特性的影响 | 第38-41页 |
| ·实验过程 | 第38页 |
| ·实验结果与讨论 | 第38-41页 |
| ·氧氩比对薄膜结构及光学性质的影响 | 第41-44页 |
| ·实验过程 | 第41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-44页 |
| ·基底温度对薄膜结构及光学性质的影响 | 第44-45页 |
| ·实验过程 | 第44页 |
| ·实验结果与讨论 | 第44-45页 |
| ·溅射功率对薄膜结构及光学性质的影响 | 第45-47页 |
| ·实验过程 | 第45页 |
| ·实验结果与讨论 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 总结与展望 | 第48-51页 |
| ·主要的研究结果 | 第48-49页 |
| ·主要创新点 | 第49-50页 |
| ·工作展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 后记 | 第57-58页 |
| 攻读硕士期间论文发表及科研情况 | 第58页 |