| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·等离子喷涂工艺 | 第10-13页 |
| ·概述 | 第10-11页 |
| ·等离子喷涂原理及特点 | 第11-12页 |
| ·等离子喷涂工艺应用 | 第12-13页 |
| ·等离子喷涂数值模拟研究进展 | 第13-17页 |
| ·等离子喷枪数值模拟 | 第14页 |
| ·等离子射流数值模拟 | 第14-15页 |
| ·等离子喷涂层片形成过程数值模拟 | 第15-17页 |
| ·等离子喷涂涂层形成过程数值模拟 | 第17页 |
| ·研究内容与意义 | 第17-19页 |
| ·研究内容 | 第17-18页 |
| ·研究意义 | 第18-19页 |
| 第二章 数学模型与数值计算方法 | 第19-27页 |
| ·数学模型 | 第19-21页 |
| ·模型假设 | 第19页 |
| ·控制方程 | 第19-21页 |
| ·边界条件 | 第21页 |
| ·计算流体力学软件—Fluent | 第21-23页 |
| ·Fluent 软件的组成 | 第21-22页 |
| ·Fluent 解法器 | 第22页 |
| ·Fluent 软件的功能和特点 | 第22-23页 |
| ·数值计算方法 | 第23-25页 |
| ·控制方程的离散 | 第23-24页 |
| ·求解控制方程的算法 | 第24页 |
| ·自由液面跟踪 | 第24-25页 |
| ·计算过程 | 第25-27页 |
| 第三章 等离子喷涂层片形成过程的数值模拟 | 第27-37页 |
| ·层片形成过程流体动力学模拟 | 第27-28页 |
| ·层片形成过程温度场的变化云图 | 第28页 |
| ·层片形成过程速度场的变化云图 | 第28-32页 |
| ·层片形成过程压力场的变化云图 | 第32-34页 |
| ·压力和速度随时间的变化关系 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 基底条件对层片形成过程的影响 | 第37-52页 |
| ·基底形貌对层片形成过程的影响 | 第37-40页 |
| ·长方体状突起基底上的层片形成过程 | 第37-38页 |
| ·四面体状突起基底上的层片形成过程 | 第38-39页 |
| ·半球状突起基底上的层片形成过程 | 第39-40页 |
| ·半球状凹坑基底上的层片形成过程 | 第40页 |
| ·撞击点位置对层片形成的影响 | 第40-44页 |
| ·长方体状突起基底上撞击点位置的影响 | 第40-42页 |
| ·正四面体状突起基底上撞击点位置的影响 | 第42-43页 |
| ·半球状突起基底上撞击点位置的影响 | 第43-44页 |
| ·基底热导率对层片形成过程的影响 | 第44-45页 |
| ·基底倾斜角度对层片形成过程的影响 | 第45-51页 |
| ·倾斜基底上的层片形成过程 | 第45-46页 |
| ·基底倾斜角度对层片最终形貌的影响 | 第46-50页 |
| ·基底倾斜角度对层片与基底结合度的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 熔滴交互作用下的撞击动力学模拟 | 第52-61页 |
| ·平行两熔滴的交互作用下的撞击动力学过程 | 第52-55页 |
| ·两平行熔滴球心相距 2R 撞击在基底上的过程 | 第52-53页 |
| ·两平行熔滴球心相距 3R 撞击在基底上的过程 | 第53页 |
| ·两平行熔滴球心相距 4R 撞击在基底上的过程 | 第53-54页 |
| ·熔滴球心间距不同对交互作用的影响 | 第54-55页 |
| ·垂直两熔滴的交互作用下的撞击动力学过程 | 第55-59页 |
| ·尺寸相同的垂直两熔滴的交互作用 | 第55-56页 |
| ·尺寸不同的垂直两熔滴的交互作用 | 第56-58页 |
| ·熔滴尺寸对熔滴之间交互作用的影响 | 第58-59页 |
| ·混合状态多熔滴交互作用下的撞击动力学过程 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 涂层形成过程的数值模拟 | 第61-72页 |
| ·熔滴撞击到已凝固层片上的流体动力学过程 | 第61-66页 |
| ·单熔滴在已凝固层片上的撞击动力学过程 | 第61页 |
| ·单熔滴与层片的相对位置对涂层最终形貌的影响 | 第61-63页 |
| ·两熔滴在已凝固层片上的撞击动力学过程 | 第63-65页 |
| ·两熔滴与层片的相对位置对涂层最终形貌的影响 | 第65-66页 |
| ·熔滴撞击到未凝固层片上的流体动力学过程 | 第66-70页 |
| ·单熔滴在未凝固层片上的撞击动力学过程 | 第66页 |
| ·单熔滴与未凝固层片的相对位置对涂层最终形貌的影响 | 第66-68页 |
| ·两熔滴在未凝固层片上的撞击动力学过程 | 第68-69页 |
| ·两熔滴与未凝固层片的相对位置对涂层最终形貌的影响 | 第69-70页 |
| ·多熔滴与层片交互作用形成涂层过程的数值模拟 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历 | 第80-81页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第81页 |