摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
目录 | 第10-13页 |
第一章 绪论 | 第13-27页 |
·磁记录的发展历史与现状 | 第13-15页 |
·垂直磁记录材料的研究与进展 | 第15-18页 |
·Co 基合金薄膜 | 第15页 |
·L10 相 FePt 薄膜 | 第15-16页 |
·软磁-硬磁交换耦合复合介质薄膜 | 第16页 |
·稀土-过渡金属(RE-TM)薄膜 | 第16-18页 |
·Nd-Fe(Co)合金的磁性 | 第18-25页 |
·NdCo5化合物 | 第19-20页 |
·Nd2Fe17化合物 | 第20-23页 |
·Nd-Fe 亚稳相 | 第23-24页 |
·Nd6Fe13Si 化合物 | 第24-25页 |
·本论文的主要工作概述 | 第25-27页 |
第二章 实验方法和测试原理 | 第27-36页 |
·薄膜样品的制备 | 第27-30页 |
·磁控溅射仪原理 | 第27-28页 |
·磁控溅射仪 | 第28-29页 |
·基底清洗与工艺条件 | 第29-30页 |
·快速退火热处理工艺(RTA) | 第30-31页 |
·快速退火的特点 | 第30页 |
·真空快速退火炉 | 第30-31页 |
·样品的测量 | 第31-36页 |
·微观结构与成分测量 | 第31-33页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第31-33页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
·X 射线能谱仪(EDS) | 第33页 |
·磁畴结构与磁学性能表征 | 第33-36页 |
·磁力及原子力显微镜(MFM/AFM) | 第33-34页 |
·振动样品磁强计(VSM) | 第34-36页 |
第三章 制备态 Si(111)/NdFeCo/Cr 薄膜的微结构与磁性 | 第36-50页 |
·引言 | 第36页 |
·实验方法 | 第36-37页 |
·实验结果 | 第37-47页 |
·晶体结构的 XRD 表征 | 第37页 |
·表(截)面形貌的 FE-SEM 和 AFM 表征 | 第37-40页 |
·成分的 EDS 表征 | 第40-42页 |
·本征磁性能的 VSM 表征 | 第42-44页 |
·磁畴结构的 MFM 表征 | 第44-47页 |
·讨论 | 第47-48页 |
·小结 | 第48-50页 |
第四章 退火态 Si(111)/NdFeCo/Cr 薄膜的微结构与磁性 | 第50-75页 |
·引言 | 第50页 |
·实验方法 | 第50-51页 |
·实验结果 | 第51-73页 |
·退火温度对制备态 Si(111)/NdFeCo/Cr 薄膜结构和磁性的影响 | 第51-64页 |
·晶体结构的 XRD 表征 | 第51-52页 |
·截面结构与成分的 FE-SEM 表征 | 第52-54页 |
·本征磁性能的 VSM 表征 | 第54-56页 |
·表面形貌与磁畴的 AFM / MFM 表征 | 第56-61页 |
·分析与讨论 | 第61-64页 |
·加热工艺对 Si(111)/ Nd_(43)Fe_40Co_(17)/Cr 样品微结构与磁性的影响 | 第64-69页 |
·室温基底样品 | 第65-67页 |
·基底加热样品 | 第67-69页 |
·快速退火(RTA)与常规退火(CTA)对样品磁性影响的比较 | 第69-73页 |
·PAr= 0.1 Pa 样品 | 第70-71页 |
·PAr= 1.5 Pa 样品 | 第71-73页 |
·小结 | 第73-75页 |
第五章 Si(111)/(Cr)/NdCo_x(x = 4, 5)/Cr 薄膜的微结构与磁特性 | 第75-95页 |
·引言 | 第75-76页 |
·实验方法 | 第76页 |
·实验结果 | 第76-93页 |
·Si(111)/(Cr)/NdCo4/Cr 薄膜的微结构与磁特性 | 第76-86页 |
·晶体结构的 XRD 表征 | 第76-78页 |
·成分与横截面的 EF-SEM 表征 | 第78-79页 |
·形貌与磁畴的 AFM/MFM 表征 | 第79-83页 |
·本征磁性能的 VSM 表征 | 第83-86页 |
·Si(111)/Cr/NdCo5/Cr 薄膜的微结构与磁特性 | 第86-93页 |
·成分与晶体结构的 EDS/XRD 表征 | 第86-87页 |
·本征磁性能的 VSM 表征 | 第87-91页 |
·形貌与磁畴的 AFM/MFM 表征 | 第91-93页 |
·本章小结 | 第93-95页 |
第六章 结论 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-108页 |
在学研究成果 | 第108-109页 |
致谢 | 第109页 |