摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-19页 |
·前言 | 第8-9页 |
·Mo 基催化剂的硫化方法和硫化剂种类 | 第9页 |
·Mo 基催化剂的硫化方法 | 第9页 |
·Mo 基催化剂硫化剂种类 | 第9页 |
·Mo 基催化剂的硫化 | 第9-13页 |
·单组份 MoO_3催化剂的硫化 | 第10-11页 |
·添加助剂后 MoO_3催化剂的硫化 | 第11-13页 |
·Mo 基催化剂的硫化机理 | 第13-17页 |
·单组份 MoO_3催化剂的硫化机理 | 第13-16页 |
·添加助剂后 MoO_3催化剂的硫化机理 | 第16-17页 |
·CeO_2的硫化行为 | 第17页 |
·Mo 基催化剂的分步硫化 | 第17-18页 |
·论文研究目的和内容 | 第18-19页 |
第二章 实验部分 | 第19-25页 |
·实验原料及设备 | 第19-20页 |
·实验原料 | 第19页 |
·实验设备 | 第19-20页 |
·材料制备 | 第20-21页 |
·MoO_3/Al_2O_3和 CoO-MoO_3/Al_2O_3催化剂的制备 | 第20页 |
·CeO_2-Al_2O_3载体制备 | 第20-21页 |
·MoO_3/CeO_2-Al_2O_3催化剂制备 | 第21页 |
·样品硫化 | 第21-22页 |
·催化剂评价过程及样品分析 | 第22-23页 |
·计算公式 | 第23页 |
·表征方法 | 第23-25页 |
·氮气物理吸附 | 第23-24页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第24页 |
·激光拉曼光谱(Raman) | 第24页 |
·场发射透射电镜(TEM) | 第24页 |
·X 光电子能谱(XPS) | 第24页 |
·程序升温硫化(TPS) | 第24-25页 |
第三章 MoO_3/CeO_2-Al_2O_3催化剂的硫化条件研究 | 第25-32页 |
·硫化氢浓度对催化剂活性的影响 | 第25-27页 |
·硫化时间对催化剂活性的影响 | 第27-28页 |
·硫化压力对催化剂活性的影响 | 第28-30页 |
·硫化温度对催化剂活性的影响 | 第30-31页 |
·小结 | 第31-32页 |
第四章 MoO_3/Al_2O_3和 CoO-MoO_3/Al_2O_3催化剂硫化温度的研究 | 第32-45页 |
·硫化温度对 MoO_3/Al_2O_3催化剂的影响 | 第32-37页 |
·催化剂性能评价 | 第32-34页 |
·催化剂表征 | 第34-37页 |
·硫化温度对 CoO-MoO_3/Al_2O_3催化剂的影响 | 第37-43页 |
·催化剂性能评价 | 第37-39页 |
·催化剂表征 | 第39-42页 |
·催化剂拉曼表征 | 第42-43页 |
·小结 | 第43-45页 |
第五章 MoO_3/CeO_2-Al_2O_3催化剂硫化温度的研究 | 第45-55页 |
·硫化温度对 MoO_3/CeO_2-Al_2O_3催化剂的影响 | 第45-53页 |
·催化剂性能评价 | 第45-47页 |
·催化剂表征 | 第47-53页 |
·小结 | 第53-55页 |
第六章 Mo 基催化剂的分步硫化研究 | 第55-66页 |
·Mo 基催化剂分步硫化的影响 | 第55-64页 |
·催化剂分步硫化处理后的活性评价 | 第55-58页 |
·催化剂表征 | 第58-64页 |
·小结 | 第64-66页 |
第七章 结论 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-74页 |
发表论文和科研情况说明 | 第74-75页 |
致谢 | 第75页 |