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磁性表面印迹复合光催化剂的制备及选择性降解抗生素的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-27页
   ·抗生素第11-13页
     ·抗生素第11-12页
     ·环境中的抗生素危害以及治理第12-13页
   ·半导体光催化材料第13-16页
     ·半导体材料第13页
     ·半导体光催化反应的原理第13-15页
     ·半导体光催化材料在环境中的应用第15-16页
   ·纳米磁性材料第16-19页
     ·纳米磁性材料概述第16-17页
     ·纳米磁性复合催化材料第17-19页
   ·分子印迹技术及其在环境领域中的应用第19-23页
     ·分子印迹概述第19页
     ·分子印迹的原理第19-20页
     ·分子印迹聚合物的制备方法第20-21页
     ·分子印迹聚合物的应用第21-23页
   ·课题研究的背景、目的意义及内容第23-27页
     ·课题的研究背景第23页
     ·课题研究的目的与意义第23-24页
     ·课题研究的主要内容第24-27页
第二章 实验仪器材料与表征方法第27-34页
   ·实验部分第27-29页
     ·实验试剂与材料第27-28页
     ·实验仪器设备第28-29页
   ·磁性表面印迹复合光催化剂的表征第29-32页
     ·TEM 和 SEM 表征第29-30页
     ·XRD 表征第30页
     ·FT-IR 分析第30页
     ·UV-vis 测试第30-31页
     ·热重分析第31页
     ·VSM 分析第31-32页
     ·现代仪器对磁性表面印迹复合光催化剂的表征分析方法第32页
     ·分子印迹聚合物识别性能的表征第32页
   ·催化剂光催化活性的测试第32-34页
     ·光催化活性的测试仪器第32-33页
     ·光催化活性的测试方法第33-34页
第三章 磁性表面印迹 TiO_2复合光催化剂的研究第34-49页
   ·引言第34-35页
   ·实验部分第35-37页
     ·实验制备流程第35-36页
     ·Fe_3O_4的制备第36页
     ·SiO_2@Fe_3O_4的制备第36页
     ·TiO_2@SiO_2@Fe_3O_4光催化剂的制备第36页
     ·磁性表面印迹 TiO_2复合光催化剂的制备第36-37页
   ·结果与讨论第37-42页
     ·样品的 XRD 谱图第37-38页
     ·样品的透射及扫描电镜图第38-39页
     ·样品的 FT-IR 谱图第39-40页
     ·样品的 UV-vis DRS 谱图第40-41页
     ·样品的 VSM 谱图第41-42页
     ·样品的 TGA 谱图第42页
   ·影响磁性印迹 TiO_2复合光催化剂活性的因素考察第42-47页
     ·不同印迹聚合物的光催化性能比较第42-44页
     ·不同浓度 MMA 制备的印迹聚合物光催化性能比较第44页
     ·光催化选择性的考察第44-46页
     ·光化学稳定性的考察第46-47页
   ·本章小结第47-49页
第四章 磁性表面印迹 CdS 复合光催化剂的研究第49-65页
   ·引言第49-50页
   ·实验部分第50-52页
     ·实验制备流程第50页
     ·Fe_3O_4的制备第50-51页
     ·C@Fe_3O_4的制备第51页
     ·CdS@C@Fe_3O_4的制备第51页
     ·磁性表面印迹 CdS 复合光催化剂的制备第51-52页
     ·光催化降解吸附时间的确定第52页
   ·结果与讨论第52-57页
     ·样品的 XRD 谱图第52-53页
     ·样品的透射电镜图第53-54页
     ·样品的 FT-IR 谱图第54-55页
     ·样品的 UV-vis DRS 谱图第55-56页
     ·样品的 VSM 谱图第56-57页
   ·影响磁性表面印迹 CdS 复合光催化剂活性的因素考察第57-64页
     ·分子印迹聚合物达到吸附平衡时间的确定第57-58页
     ·不同印迹聚合物的光催化性能比较第58-59页
     ·模板分子与功能单体不同配比的影响第59-60页
     ·不同聚合反应时间的影响第60-61页
     ·不同的光催化剂光降解活性的对比第61-62页
     ·选择性考察第62-63页
     ·催化剂稳定性能测试第63-64页
   ·本章小结第64-65页
结论与展望第65-68页
参考文献第68-74页
致谢第74页

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