| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号说明 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 课题研究背景与研究意义 | 第13-18页 |
| 1.1.1 课题研究的背景 | 第13-15页 |
| 1.1.2 课题研究的意义 | 第15-18页 |
| 1.2 纳米压印技术发展现状 | 第18-19页 |
| 1.3 紫外纳米压印现状和原理 | 第19-23页 |
| 1.3.1 紫外纳米压印原理 | 第19-22页 |
| 1.3.2 紫外纳米压印国内外现状 | 第22-23页 |
| 1.4 减反射技术 | 第23页 |
| 1.5 微纳减反技术的国内外现状 | 第23-24页 |
| 1.6 紫外压印制品的应用 | 第24-25页 |
| 1.7 论文基本内容 | 第25-27页 |
| 第二章 聚合物表面纳米蛾眼结构的紫外压印制备工艺及其抗反射性能表征 | 第27-45页 |
| 2.1 聚合物表面蛾眼结构的制备 | 第27-33页 |
| 2.1.1 压力对蛾眼纳米结构成型影响 | 第29-30页 |
| 2.1.2 粘度对蛾眼纳米结构成型影响 | 第30-32页 |
| 2.1.3 转写速度对蛾眼纳米结构成型的影响 | 第32-33页 |
| 2.2 旋涂工艺和点胶工艺蛾眼制品对比 | 第33-36页 |
| 2.3 镀膜减反原理和微纳结构减反原理简介 | 第36-37页 |
| 2.4 蛾眼纳米结构聚合物光学性能的表征 | 第37-41页 |
| 2.4.1 实验设备的搭建 | 第37-41页 |
| 2.5 蛾眼制品反射率的测量 | 第41-44页 |
| 2.6 本章总结 | 第44-45页 |
| 第三章 软模板制备蛾眼微纳米结构及工艺优化 | 第45-65页 |
| 3.1 点胶工艺 | 第45-51页 |
| 3.1.1 紫外胶液滴流动分析和紫外胶残留层 | 第45-48页 |
| 3.1.2 液滴融合点的计算 | 第48-50页 |
| 3.1.3 曝光时间的确定 | 第50-51页 |
| 3.2 聚二甲基硅氧烷(PDMS)进行软模板的制备 | 第51-56页 |
| 3.3 软模板（PDMS）制备蛾眼纳米结构 | 第56-63页 |
| 3.4 蛾眼制品效果展示 | 第63-64页 |
| 3.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 微纳米结构减反射的模拟研究 | 第65-83页 |
| 4.1 时域有限差分法(FDTD)基本原理 | 第65-67页 |
| 4.2 数值稳定条件 | 第67页 |
| 4.3 三维Maxwell方程的Yee算法 | 第67-68页 |
| 4.4 微纳结构减反射模型 | 第68页 |
| 4.5 微纳结构减反射光栅的优化和设计 | 第68-82页 |
| 4.5.1 太阳能量光谱的模拟 | 第69-70页 |
| 4.5.2 二维光栅的模拟 | 第70-82页 |
| 4.6 本章总结 | 第82-83页 |
| 第五章 总结与展望 | 第83-87页 |
| 5.1 总结 | 第83-84页 |
| 5.2 展望 | 第84页 |
| 5.3 创新点摘要 | 第84-87页 |
| 参考文献 | 第87-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第93-95页 |
| 作者和导师简介 | 第95-96页 |
| 附件 | 第96-97页 |