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Ga体系光催化材料制备及其光催化还原CO2性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
第一章 绪论第10-24页
   ·引言第10页
   ·光催化还原CO_2第10-18页
     ·温室效应第10-11页
     ·光催化还原CO_2的研究进展第11页
     ·半导体光催化CO_2反应机理第11-13页
     ·半导体光催化反应的影响因素第13-15页
     ·半导体光催化材料的改性第15-18页
     ·光催化材料存在的问题与展望第18页
   ·介孔材料第18-19页
   ·异质结第19-20页
   ·本主要研究内容与研究意义第20-22页
     ·选题依据第20页
     ·本课题研究的内容与意义第20-22页
 本章参考文献第22-24页
第二章 实验部分第24-28页
   ·主要化学试剂及实验仪器第24页
   ·催化剂的表征第24-26页
     ·X射线衍射分析(X-Ray Diffraction)第24页
     ·比表面积测定(BET)第24-25页
     ·固体紫外可见漫反射谱(UV-Vis diffuse reflectance spectroscopy)第25页
     ·扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)第25页
     ·Zeta电位(Zeta potential)第25页
     ·傅里叶红外光谱(FT-IR)第25页
     ·电子顺磁共振谱(EPR)第25-26页
   ·光催化还原CO_2性能评价第26-28页
     ·光催化还原CO_2反应的评价装置第26-27页
     ·光源光谱第27-28页
第三章 介孔Ga_2O_3单晶纳米片制备及其光催化还原CO_2性能研究第28-42页
   ·引言第28页
   ·介孔Ga_2O_3单晶纳米片的制备第28-29页
   ·结果与讨论第29-37页
     ·物相和形貌分析第29-31页
     ·pH的影响第31-33页
     ·比表面积分析第33-34页
     ·光催化还原CO_2性能表征第34-35页
     ·傅里叶转换红外光谱分析第35-36页
     ·电子顺磁共振谱分析第36-37页
 本章小结第37-38页
 本章参考文献第38-42页
第四章 ZnGa_2O_4/Ga_2O_3异质结制备及其光催化还原CO_2性能研究第42-56页
   ·引言第42-43页
   ·ZnGa_2O_4/Ga_2O_3异质结的制备第43页
   ·结果与讨论第43-50页
     ·物相、形貌和比表面积分析第43-45页
     ·紫外可见吸收光谱分析第45-46页
     ·光催化转化CO_2的性能表征第46-48页
     ·ZnGa_2O_4/Ga_2O_3异质结的光催化机理第48-50页
 本章小结第50-51页
 本章参考文献第51-56页
全文总结及展望第56-58页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第58-60页
致谢第60-61页

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