摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
·引言 | 第10页 |
·光催化还原CO_2 | 第10-18页 |
·温室效应 | 第10-11页 |
·光催化还原CO_2的研究进展 | 第11页 |
·半导体光催化CO_2反应机理 | 第11-13页 |
·半导体光催化反应的影响因素 | 第13-15页 |
·半导体光催化材料的改性 | 第15-18页 |
·光催化材料存在的问题与展望 | 第18页 |
·介孔材料 | 第18-19页 |
·异质结 | 第19-20页 |
·本主要研究内容与研究意义 | 第20-22页 |
·选题依据 | 第20页 |
·本课题研究的内容与意义 | 第20-22页 |
本章参考文献 | 第22-24页 |
第二章 实验部分 | 第24-28页 |
·主要化学试剂及实验仪器 | 第24页 |
·催化剂的表征 | 第24-26页 |
·X射线衍射分析(X-Ray Diffraction) | 第24页 |
·比表面积测定(BET) | 第24-25页 |
·固体紫外可见漫反射谱(UV-Vis diffuse reflectance spectroscopy) | 第25页 |
·扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第25页 |
·Zeta电位(Zeta potential) | 第25页 |
·傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第25页 |
·电子顺磁共振谱(EPR) | 第25-26页 |
·光催化还原CO_2性能评价 | 第26-28页 |
·光催化还原CO_2反应的评价装置 | 第26-27页 |
·光源光谱 | 第27-28页 |
第三章 介孔Ga_2O_3单晶纳米片制备及其光催化还原CO_2性能研究 | 第28-42页 |
·引言 | 第28页 |
·介孔Ga_2O_3单晶纳米片的制备 | 第28-29页 |
·结果与讨论 | 第29-37页 |
·物相和形貌分析 | 第29-31页 |
·pH的影响 | 第31-33页 |
·比表面积分析 | 第33-34页 |
·光催化还原CO_2性能表征 | 第34-35页 |
·傅里叶转换红外光谱分析 | 第35-36页 |
·电子顺磁共振谱分析 | 第36-37页 |
本章小结 | 第37-38页 |
本章参考文献 | 第38-42页 |
第四章 ZnGa_2O_4/Ga_2O_3异质结制备及其光催化还原CO_2性能研究 | 第42-56页 |
·引言 | 第42-43页 |
·ZnGa_2O_4/Ga_2O_3异质结的制备 | 第43页 |
·结果与讨论 | 第43-50页 |
·物相、形貌和比表面积分析 | 第43-45页 |
·紫外可见吸收光谱分析 | 第45-46页 |
·光催化转化CO_2的性能表征 | 第46-48页 |
·ZnGa_2O_4/Ga_2O_3异质结的光催化机理 | 第48-50页 |
本章小结 | 第50-51页 |
本章参考文献 | 第51-56页 |
全文总结及展望 | 第56-58页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第58-60页 |
致谢 | 第60-61页 |