| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第10-11页 |
| ·MEMS 电容器国内外研究现状 | 第11-17页 |
| ·MEMS 电容器的发展及特征 | 第11-15页 |
| ·MEMS 电容器的种类及应用 | 第15-17页 |
| ·论文的选题依据和主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 MEMS 电容器的工作原理及制备关键技术 | 第19-29页 |
| ·静电式 MEMS 电容器工作原理 | 第19-20页 |
| ·MEMS 电容器理论模型原理 | 第19-20页 |
| ·MEMS 电容器储能原理 | 第20页 |
| ·静电式 MEMS 电容器主要制备关键技术 | 第20-28页 |
| ·溅射技术 | 第20-21页 |
| ·光刻技术 | 第21-24页 |
| ·离子束刻蚀技术 | 第24-25页 |
| ·深反应离子刻蚀技术 | 第25-27页 |
| ·原子层沉积技术 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 高过载 MEMS 电容器结构的设计与仿真 | 第29-41页 |
| ·高过载 MEMS 电容器整体设计 | 第29-30页 |
| ·静电式 MEMS 电容器方案设计 | 第30-32页 |
| ·基底材料与功能薄膜材料选择 | 第30-32页 |
| ·大比容值电容器基础结构设计 | 第32页 |
| ·MEMS 电容器器件的仿真分析 | 第32-40页 |
| ·结构力学仿真分析 | 第32-38页 |
| ·电学性能仿真分析 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 三维硅微结构 MEMS 电容器器件制造 | 第41-63页 |
| ·基于 MEMS 工艺的高过载三维硅微结构 MEMS 电容器制造工艺设计 | 第41-44页 |
| ·MEMS 电容器结构加工流程设计 | 第41-44页 |
| ·MEMS 电容器结构的版图设计 | 第44页 |
| ·三维硅微结构 MEMS 电容器加工工艺 | 第44-61页 |
| ·高深宽比深槽结构加工 | 第44-56页 |
| ·电极层与电介质层加工与结构表征 | 第56-61页 |
| ·样片的清理与保护 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 MEMS 电容器器件性能的初步测试 | 第63-70页 |
| ·MEMS 电容器电学性能测试系统与测试分析 | 第63-67页 |
| ·MEMS 电容器电学性能测试原理 | 第63-64页 |
| ·MEMS 电容器电学参数测试分析 | 第64-67页 |
| ·温度变化对 MEMS 电容器性能实验测试 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第六章 结论与展望 | 第70-73页 |
| ·全文总结 | 第70-71页 |
| ·论文的主要创新点及贡献 | 第71页 |
| ·展望与建议 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |