X射线荧光光谱分析法在钨矿检测中的应用与研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
目录 | 第5-7页 |
第一章 引言 | 第7-16页 |
·钨的概述 | 第7-9页 |
·钨矿概述 | 第7页 |
·钨资源的分布 | 第7-8页 |
·钨的用途及前景 | 第8-9页 |
·赣州钨产业优势 | 第9页 |
·课题背景 | 第9-12页 |
·钨产业现状 | 第9-10页 |
·课题目的 | 第10页 |
·钨矿分析方法现状 | 第10-12页 |
·X射线荧光光谱分析概述 | 第12-15页 |
·X射线荧光光谱分析技术的发展 | 第12-13页 |
·X射线光谱分析技术的应用 | 第13-15页 |
·课题提出 | 第15-16页 |
·研究内容和方法 | 第15页 |
·研究特色 | 第15-16页 |
第二章 实验方法 | 第16-37页 |
·样品制备 | 第16-20页 |
·试样形式与来源 | 第16页 |
·试样前处理 | 第16-18页 |
·制样方法选择 | 第18页 |
·溶液-滤纸薄样法制样 | 第18-19页 |
·标准样品制备 | 第19-20页 |
·实验仪器条件设置 | 第20-26页 |
·激发系统选择 | 第20-23页 |
·色散系统选择 | 第23-24页 |
·检测系统选择 | 第24-26页 |
·实验程序汇编 | 第26-36页 |
·测量程序汇编 | 第26-33页 |
·建立标准样品数据库 | 第33-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第三章 溶液-滤纸薄样法实验结果与讨论 | 第37-46页 |
·溶液-滤纸薄样法制样的结果与讨论 | 第37-40页 |
·试样溶解条件 | 第37-38页 |
·薄样法条件 | 第38-40页 |
·标准曲线与基体效应校正 | 第40-44页 |
·基体效应 | 第40-41页 |
·基体效应校正 | 第41-42页 |
·标准曲线 | 第42-44页 |
·样品分析结果 | 第44-45页 |
·精密度与准确度 | 第44-45页 |
·检出限 | 第45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第四章 同时分析主次元素组分含量实验 | 第46-58页 |
·制样方法 | 第46-52页 |
·制样方法现状 | 第46-47页 |
·实验主要试剂 | 第47页 |
·压片法制样研究 | 第47-49页 |
·熔融法制样研究 | 第49-52页 |
·测量及校正 | 第52-56页 |
·分析测量程序 | 第52-54页 |
·测量条件及背景校正 | 第54-55页 |
·谱线干扰校正 | 第55-56页 |
·基体效应校正 | 第56页 |
·结果与讨论 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第五章 结论 | 第58-60页 |
·主要结论 | 第58-59页 |
·展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第65-66页 |