| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·过渡族金属纳米复合薄膜的研究现状 | 第10-14页 |
| ·第四副族过渡金属氮化物薄膜 | 第10-11页 |
| ·氮化锆系列薄膜研究现状 | 第11-12页 |
| ·氮化铪系列薄膜研究现状 | 第12页 |
| ·Me-Si-N 体系纳米颗粒复合膜 | 第12-14页 |
| ·Si 含量对 Me-Si-N 体系纳米复合膜的影响 | 第14-15页 |
| ·Si 含量对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第14页 |
| ·Si 含量对薄膜硬度的影响 | 第14页 |
| ·Si 含量对薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第14-15页 |
| ·Si 含量对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第15页 |
| ·物理气相沉积（PVD）技术 | 第15-17页 |
| ·磁控溅射技术 | 第15-16页 |
| ·离子束辅助沉积技术 | 第16-17页 |
| ·课题研究的主要内容和意义 | 第17-19页 |
| 第2章 实验材料和实验方法 | 第19-25页 |
| ·实验材料及试样的制备 | 第19-21页 |
| ·实验材料的选择 | 第19-20页 |
| ·试样的制备过程 | 第20-21页 |
| ·薄膜形貌和微观结构表征 | 第21-22页 |
| ·薄膜表面形貌分析(SEM) | 第21-22页 |
| ·薄膜表面三维形貌分析(AFM) | 第22页 |
| ·薄膜组成成分分析(EDS) | 第22页 |
| ·薄膜晶体结构及取向分析(XRD) | 第22页 |
| ·薄膜组成元素化学组态分析(XPS) | 第22页 |
| ·薄膜性能测试 | 第22-24页 |
| ·纳米力学性能测试 | 第22-23页 |
| ·摩擦磨损性能测试 | 第23页 |
| ·抗热疲劳性能测试 | 第23页 |
| ·耐蚀性能测试 | 第23页 |
| ·生物相容性测试 | 第23-24页 |
| ·薄膜表面接触角测试 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 Zr-Si-N 薄膜的制备与性能表征 | 第25-39页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·薄膜的形貌、成分及结构分析 | 第25-29页 |
| ·成分分析 | 第25-26页 |
| ·形貌观察 | 第26-27页 |
| ·相结构分析 | 第27-28页 |
| ·化学态分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜的纳米力学性能分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜的摩擦磨损性能分析 | 第30-31页 |
| ·磨损性能分析 | 第30页 |
| ·磨痕形貌观察 | 第30-31页 |
| ·薄膜的生物相容性分析 | 第31-37页 |
| ·模拟体液中的腐蚀性能 | 第31-34页 |
| ·蛋白吸附性能 | 第34-36页 |
| ·血小板黏附性能 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 Hf-Si-N 薄膜的制备与性能表征 | 第39-56页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·IBAD 技术制备 Hf-Si-N 薄膜的结构与性能分析 | 第39-43页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜形貌观察 | 第39页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜相分析 | 第39-40页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜 XPS 分析 | 第40-41页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜纳米力学性能分析 | 第41页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜生物医用抗蚀性能分析 | 第41-43页 |
| ·磁控溅射制备 Hf-Si-N 薄膜的结构与性能分析 | 第43-55页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜成分分析 | 第43-45页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜形貌观察 | 第45-46页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜相结构分析 | 第46页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜 XPS 分析 | 第46-48页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜纳米力学性能分析 | 第48页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜摩擦磨损性能分析 | 第48-50页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜抗热疲劳性能分析 | 第50-51页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜耐腐蚀性能分析 | 第51-52页 |
| ·Hf-Si-N 薄膜生物医用性能分析 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 Me-Si-N 薄膜表面能分析 | 第56-70页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·接触角计算 Me-Si-N 类薄膜的表面能 | 第56-63页 |
| ·Me-Si-N 薄膜接触角测试分析 | 第57-61页 |
| ·Me-Si-N 薄膜表面能计算分析 | 第61-63页 |
| ·第一性原理研究 Me-Si-N 类薄膜的表面能 | 第63-69页 |
| ·第一性原理计算 Si_3N_4晶体表面能 | 第63-65页 |
| ·第一性原理计算 ZrN 晶体表面能 | 第65-66页 |
| ·第一性原理计算 HfN 晶体表面能 | 第66-68页 |
| ·不同硅含量的 Me-Si–N 薄膜表面能的计算 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
