超疏水材料的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·固体表面浸润性理论 | 第8-14页 |
| ·接触角与杨氏方程 | 第9页 |
| ·Wenzel模型与Cassie模型 | 第9-11页 |
| ·Wenzel状态与Cassie状态之间的关系 | 第11-12页 |
| ·前进角、后退角与接触角滞后动态润湿性质 | 第12-14页 |
| ·滚动角 | 第14页 |
| ·超疏水表面的制备方法 | 第14-20页 |
| ·等离子刻蚀法 | 第15-16页 |
| ·模板法 | 第16页 |
| ·电化学方法 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·熔化-固化法 | 第17页 |
| ·腐蚀法 | 第17-18页 |
| ·相分离法 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18页 |
| ·溶剂-非溶剂成膜 | 第18-19页 |
| ·其他方法 | 第19-20页 |
| ·超疏水表面的应用背景 | 第20-23页 |
| ·油水分离 | 第20页 |
| ·超疏水织物 | 第20-21页 |
| ·液体输送 | 第21页 |
| ·电池和燃料电池的应用 | 第21页 |
| ·建筑领域 | 第21-22页 |
| ·防腐蚀 | 第22页 |
| ·日用品包装 | 第22页 |
| ·生物医学 | 第22页 |
| ·电子设备的防潮涂层 | 第22页 |
| ·交通运输工具 | 第22-23页 |
| ·构建超疏水表面材料存在的问题及发展趋势 | 第23-24页 |
| ·存在的问题 | 第23页 |
| ·发展趋势 | 第23-24页 |
| ·本论文研究的内容 | 第24-25页 |
| 第二章 二氧化硅纳米线的合成及疏水性能研究 | 第25-39页 |
| ·研究现状及简介 | 第25-26页 |
| ·实验材料与仪器 | 第26-27页 |
| ·实验材料 | 第26页 |
| ·主要仪器 | 第26-27页 |
| ·实验测试表征方法 | 第27-28页 |
| ·接触角测量 | 第27页 |
| ·透射电子显微镜 | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28页 |
| ·红外光谱仪测量 | 第28页 |
| ·TG-DSC分析 | 第28页 |
| ·具体实验步骤 | 第28-37页 |
| ·具有较高纵横比的二氧化硅纳米线的制备 | 第28-31页 |
| ·二氧化硅纳米线表面硅烷化处理 | 第31-37页 |
| ·硅烷化二氧化硅纳米线表征及分析 | 第37-39页 |
| ·扫描电镜和透射电镜分析 | 第37页 |
| ·红外(FT-IR)分析 | 第37-38页 |
| ·热重分析 | 第38-39页 |
| 第三章 氧化亚铜纳米线的制备及疏水性能的研究 | 第39-51页 |
| ·研究现状及简介 | 第39-40页 |
| ·实验材料与仪器 | 第40-41页 |
| ·实验材料 | 第40-41页 |
| ·主要仪器 | 第41页 |
| ·具体实验步骤 | 第41-48页 |
| ·氧化亚铜纳米线的制备 | 第41-43页 |
| ·氧化亚铜纳米线表面硅烷化处理 | 第43-48页 |
| ·硅烷化氧化亚铜纳米线的表征及分析 | 第48-51页 |
| ·扫描电镜和透射电镜分析 | 第48-49页 |
| ·红外(FT-IR)分析 | 第49页 |
| ·XRD分析 | 第49-51页 |
| 结论 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
