| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·非晶态合金简介 | 第12-15页 |
| ·非晶态合金及其发展 | 第12-13页 |
| ·非晶态合金的结构及特点 | 第13页 |
| ·非晶态合金的形成机理及制备方法 | 第13-14页 |
| ·非晶态合金的应用 | 第14-15页 |
| ·纳米晶软磁合金简介 | 第15-18页 |
| ·纳米晶软磁合金发展概况 | 第15-16页 |
| ·纳米晶软磁合金的制备方法 | 第16-17页 |
| ·纳米晶软磁合金的特点及其应用 | 第17-18页 |
| ·非晶与纳米晶软磁合金的性能优化 | 第18-19页 |
| ·性能优化方法概述 | 第18-19页 |
| ·磁脉冲处理方法及其特点 | 第19页 |
| ·正电子湮没技术简介 | 第19-22页 |
| ·正电子及正电子湮没 | 第19-20页 |
| ·正电子湮没技术及其应用 | 第20-22页 |
| ·本课题研究目的、意义及内容 | 第22-24页 |
| ·研究目的及意义 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第24-36页 |
| ·合金设计及其制备工艺 | 第24-25页 |
| ·合金设计原则 | 第24页 |
| ·非晶合金制备工艺 | 第24-25页 |
| ·非晶合金磁脉冲处理方法 | 第25-26页 |
| ·脉冲磁场的形成原理 | 第25-26页 |
| ·非晶合金的磁脉冲处理工艺 | 第26页 |
| ·正电子湮没技术 | 第26-30页 |
| ·正电子湮没寿命谱仪工作原理 | 第26-27页 |
| ·正电子湮没寿命谱仪的标定 | 第27-30页 |
| ·正电子湮没寿命谱数据处理及结果分析 | 第30页 |
| ·其它主要分析测试方法 | 第30-36页 |
| ·X射线衍射分析 | 第30-31页 |
| ·穆斯堡尔谱分析 | 第31-33页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第33-34页 |
| ·差热分析 | 第34-36页 |
| 第3章 Fe-Co-Hf-B-Cu非晶合金的制备与表征 | 第36-44页 |
| ·非晶合金的成分设计及制备 | 第36-38页 |
| ·合金的成分设计 | 第36页 |
| ·非晶合金的制备 | 第36-38页 |
| ·非晶合金的表征 | 第38-43页 |
| ·X射线衍射分析 | 第38-39页 |
| ·透射电镜分析 | 第39页 |
| ·穆斯堡尔谱分析 | 第39-41页 |
| ·差热分析 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 Fe-Co-Hf-B-Cu非晶合金低频磁脉冲处理效应 | 第44-62页 |
| ·Fe-Co-Hf-B-Cu非晶合金低频磁脉冲处理 | 第44-45页 |
| ·非晶合金低频磁脉冲处理效应 | 第45-60页 |
| ·X射线衍射分析 | 第45-46页 |
| ·穆斯堡尔谱分析 | 第46-58页 |
| ·透射电镜分析 | 第58-59页 |
| ·差热分析 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 磁脉冲处理Fe-Co-Hf-B-Cu非晶合金的正电子湮没技术研究 | 第62-76页 |
| ·非晶与纳米晶合金的微结构缺陷 | 第62-63页 |
| ·正电子湮没寿命谱仪的标定结果 | 第63-65页 |
| ·能量标定及能窗选择 | 第63-64页 |
| ·时间刻度及时间分辨率的测定 | 第64-65页 |
| ·淬态非晶合金的正电子寿命谱分析 | 第65-67页 |
| ·磁脉冲处理Fe-Co-Hf-B-Cu非晶合金的正电子寿命谱分析 | 第67-75页 |
| ·脉冲磁场强度对合金正电子湮没寿命的影响 | 第67-70页 |
| ·脉冲频率对合金正电子湮没寿命的影响 | 第70-72页 |
| ·处理时间对合金正电子湮没寿命的影响 | 第72-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第6章 结论及展望 | 第76-78页 |
| ·研究结论 | 第76-77页 |
| ·前景展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
| 攻读学位期间发表的论文和科研情况 | 第86页 |
