摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-12页 |
第一章 绪论 | 第12-23页 |
·水润滑特点 | 第12-15页 |
·水润滑技术的特点 | 第12页 |
·水润滑的关键技术 | 第12-13页 |
·常见水润滑材料 | 第13-15页 |
·硅基非氧化物陶瓷在水润滑中的摩擦学特性 | 第15页 |
·硅基非氧化物陶瓷水润滑性能 | 第15-18页 |
·提高水润滑中的Si_3N_4 陶瓷耐磨性的方法 | 第18-19页 |
·材料复合化 | 第18页 |
·表面涂层 | 第18页 |
·离子注入法 | 第18-19页 |
·离子注入技术对硅基陶瓷性能的影响 | 第19-22页 |
·离子注入对硅基陶瓷材料的力学性能的影响 | 第19-21页 |
·离子注入对硅基陶瓷材料摩擦学性能的影响 | 第21-22页 |
·本文的主要研究内容 | 第22-23页 |
第二章 试验方法 | 第23-29页 |
·样品的制备 | 第23-24页 |
·样品材料 | 第23页 |
·C~+注入Si_3N_4 陶瓷的制备 | 第23-24页 |
·离子注入Si_3N_4 陶瓷结构的表征方法 | 第24-25页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第24页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第24-25页 |
·纳米硬度、表面粗糙度及弹性模量的表征 | 第25页 |
·Si_3N_4 陶瓷的摩擦磨损试验 | 第25-28页 |
·摩擦磨损试验的环境条件及试验参数 | 第25-26页 |
·摩擦磨痕的体积测量及宏观微观形貌分析 | 第26-28页 |
·小结 | 第28-29页 |
第三章 C~+注入Si_3N_4陶瓷表面结构表征及力学性能 | 第29-38页 |
·C~+注入Si_3N_4 陶瓷盘结构表征 | 第29-35页 |
·X 射线衍射分析 | 第29-30页 |
·X 射线光电子能谱分析 | 第30-35页 |
·力学性能分析 | 第35-37页 |
·小结 | 第37-38页 |
第四章 不同剂量的C~+注入Si_3N_4盘/ Si_3N_4球对磨的摩擦学特性 | 第38-53页 |
·滑动速度对Si_3N_4 盘/ Si_3N_4 球摩擦学性能的影响 | 第38-40页 |
·法向载荷对Si_3N_4 盘/ Si_3N_4 球摩擦学性能的影响 | 第40-42页 |
·不同注入剂量的C~+注入Si_3N_4 盘的摩擦性能比较 | 第42-44页 |
·不同注入剂量下的平均稳态摩擦系数的比较 | 第42-43页 |
·不同注入剂量下的磨损率的比较 | 第43-44页 |
·不同的C~+注入剂量时Si_3N_4 盘的磨痕三维样貌和截面形貌 | 第44-48页 |
·不同的C~+注入剂量时光学显微分析 | 第48-51页 |
·不同注入剂量下Si_3N_4 盘磨痕形貌 | 第48-50页 |
·不同注入剂量下Si_3N_4 球磨损形貌 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第五章不同能量的C~+注入Si_3N_4盘/ Si_3N_4球对磨的摩擦学特性 | 第53-68页 |
·不同的C~+注入能量时滑动速度对Si_3N_4 盘摩擦学性能的影响 | 第53-55页 |
·不同的C~+注入能量时法向载荷对Si_3N_4 盘摩擦学性能的影响 | 第55-57页 |
·不同注入能量的C~+注入Si_3N_4 盘的摩擦性能比较 | 第57-58页 |
·不同注入能量下的平均稳态摩擦系数的比较 | 第57页 |
·不同注入能量下的磨损率的比较 | 第57-58页 |
·不同的C~+注入能量时Si_3N_4 盘的磨痕三维样貌和截面形貌 | 第58-63页 |
·不同的C~+注入能量时光学显微分析 | 第63-66页 |
·不同注入能量下Si_3N_4 盘磨痕形貌 | 第63-65页 |
·不同注入能量下Si_3N_4 球磨损形貌 | 第65-66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
第六章 离子注入Si_3N_4陶瓷盘/Si_3N_4球与SI3N4陶瓷盘/SIC球摩擦学性能的比较及摩擦磨损机理分析 | 第68-74页 |
·不同参数下两种摩擦副摩擦学性能比较 | 第68-72页 |
·不同剂量时两种摩擦副摩擦学性能比较 | 第68-70页 |
·不同能量时两种摩擦副摩擦学性能比较 | 第70-72页 |
·分析讨论 | 第72-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
第七章 总结与展望 | 第74-77页 |
·本文的主要工作及结论 | 第74-75页 |
·展望 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第82页 |