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掺杂少层石墨烯电子性质的第一性原理研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
图表清单第10-13页
注释表第13-15页
第一章 绪论第15-31页
   ·碳元素及其异构体第15-18页
   ·石墨烯的发现与制备第18-21页
   ·石墨烯的结构与特性第21-25页
   ·石墨烯掺杂的研究现状第25-29页
   ·本文的主要研究内容第29-31页
第二章 理论计算方法简介第31-43页
   ·第一性原理计算第31-32页
   ·密度泛函理论第32-35页
   ·CASTEP 和 VASP 软件简介第35-36页
   ·第一性原理方法在碳纳米结构中的应用—I 原子掺杂的荷电碳纳米管的电荷分布特征第36-43页
第三章 二维的类石墨烷结构的碳卤素化合物的稳定性和电子结构第43-53页
   ·引言第43-44页
   ·模型与方法第44页
   ·F、Cl、Br 原子吸附石墨烯的稳定结构的计算结果与讨论第44-47页
   ·二维的类石墨烷结构的碳卤素化合物的稳定性和电子结构第47-52页
   ·小结第52-53页
第四章 基于金属 Pt 和半导体 SiC 基底的单边和双边掺杂少层石墨烯的电荷分布特征第53-70页
   ·引言第53-54页
   ·模型与方法第54-56页
   ·基于 6H-SiC(0001)和 Pt(111)表面的单边及双边掺杂 FLG 的电荷分布特征第56-66页
   ·基于 6H-SiC (0001)表面的单边及双边掺杂 FLG 的电荷分布特征第66-69页
   ·小结第69-70页
第五章 K 掺杂的二维石墨烯/六方氮化硼联合层状体系的电荷分布特征第70-78页
   ·引言第70-71页
   ·模型与方法第71-72页
   ·计算结果与讨论第72-77页
   ·小结第77-78页
第六章 总结和展望第78-81页
   ·总结第78-79页
   ·展望第79-81页
参考文献第81-93页
致谢第93-94页
在学期间的研究成果及发表的学术论文第94页

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