摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 KI-AgI 体系综述 | 第8-17页 |
·KI-AgI 体系简介 | 第8-9页 |
·KAg_4I_5介绍 | 第9-14页 |
·K_2AgI_3介绍 | 第14-15页 |
参考文献 | 第15-17页 |
第二章 KAg_4I_5材料的制备以及电导率测量 | 第17-28页 |
·样品的制备及表征 | 第17-20页 |
·电导率的测量及结果讨论 | 第20-26页 |
小结 | 第26-27页 |
参考文献 | 第27-28页 |
第三章 K_2AGI_3的制备以及光学性能研究 | 第28-36页 |
·K_2AGI_3材料的常用制备方法 | 第28-29页 |
·样品的制备和表征 | 第29页 |
·结果与讨论 | 第29-35页 |
小结 | 第35页 |
文献参考 | 第35-36页 |
第四章 有序介孔氧化硅综述 | 第36-45页 |
·常见有序介孔材料的结构 | 第37-39页 |
·材料制备方法 | 第39-40页 |
·材料合成机理 | 第40-44页 |
参考文献 | 第44-45页 |
第五章 有序介孔SBA-15 的制备及紫外光致发光研究 | 第45-66页 |
·有序介孔材料SBA-15 几种制备方法 | 第45-50页 |
·缺陷研究方法 | 第50-51页 |
·常见缺陷及其光学特征 | 第51-58页 |
·SBA-15 的紫外光致发光特性 | 第58-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
在读期间发表的学术论文和获得荣誉 | 第67页 |