| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·紫外薄膜研究的兴起与发展 | 第8-10页 |
| ·准分子激光器的发展 | 第8-9页 |
| ·紫外薄膜研究的发展与研究重点 | 第9-10页 |
| ·紫外薄膜的特征 | 第10-11页 |
| ·常用的紫外薄膜材料与制备方法 | 第11-18页 |
| ·常用的紫外薄膜材料 | 第11-15页 |
| ·制备紫外薄膜的基板 | 第15-16页 |
| ·紫外薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·评价紫外薄膜的主要参数 | 第18-21页 |
| ·本课题的研究内容和特色 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-28页 |
| 第二章 单层膜的制备与测试方法 | 第28-42页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验方案 | 第28-31页 |
| ·实验设计 | 第28-29页 |
| ·实验设备 | 第29页 |
| ·Al_2O_3单层膜制备步骤 | 第29-30页 |
| ·LaF_3单层膜制备方法 | 第30-31页 |
| ·本课题使用的紫外熔融石英基板光学特性的测试分析 | 第31-33页 |
| ·测试仪器与计算方法 | 第33-37页 |
| ·分光光度计 | 第33-34页 |
| ·包络线法 | 第34-35页 |
| ·Zygo干涉仪 | 第35-36页 |
| ·SPI3800N原子力显微镜 | 第36-37页 |
| ·XRD测试 | 第37页 |
| ·其它常用的测试与标定方法 | 第37-40页 |
| ·光学特性测试 | 第37-39页 |
| ·微结构测试 | 第39-40页 |
| ·薄膜成分分析 | 第40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第三章 单层膜实验结果分析 | 第42-63页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·Al_2O_3与 LaF_3等不同材料的比较 | 第42-47页 |
| ·不同材料在紫外区的透射特性比较 | 第42-43页 |
| ·不同材料在紫外区的光学常数的比较 | 第43-44页 |
| ·不同材料薄膜表面颗粒的比较 | 第44-45页 |
| ·粗糙度(RMS)的比较与标量散射理论分析 | 第45页 |
| ·不同材料薄膜结晶状况的比较 | 第45-47页 |
| ·Al_2O_3单层膜实验结果分析 | 第47-52页 |
| ·沉积速率对 Al_2O_3单层膜光学特性的影响 | 第47-49页 |
| ·光学损耗分析 | 第49-50页 |
| ·基板温度对 Al_2O_3单层膜光学特性的影响 | 第50-51页 |
| ·光学特性随时间的变化关系 | 第51-52页 |
| ·SiO_2单层膜实验结果分析 | 第52-54页 |
| ·沉积速率对光学特性的影响 | 第52-53页 |
| ·光学特性随时间的变化关系 | 第53-54页 |
| ·LaF_3单层膜实验结果分析 | 第54-60页 |
| ·沉积速率对薄膜光学特性的影响分析 | 第54-55页 |
| ·光学特性随时间的变化关系 | 第55页 |
| ·沉积速率与结晶状况的关系研究 | 第55-57页 |
| ·沉积速率的稳定性对薄膜应力的影响 | 第57页 |
| ·基板温度对薄膜表面粗糙度的影响 | 第57-58页 |
| ·基板温度与结晶状况的关系研究 | 第58-59页 |
| ·薄膜表面缺陷分析 | 第59-60页 |
| ·总结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第四章 多层膜理论设计与分析 | 第63-71页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·多层介质高反膜的理论基础 | 第63-64页 |
| ·多层介质高反膜的设计方法 | 第64-65页 |
| ·多层介质高反膜的设计结果分析 | 第65-69页 |
| ·LaF_3/MgF_2多层膜设计结果 | 第65-66页 |
| ·高折射率材料的消光系数对薄膜反射率极限的影响分析 | 第66-67页 |
| ·多层膜制备要点分析 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第五章 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·工作总结 | 第71-72页 |
| ·工作展望 | 第72-73页 |
| 硕士期间完成的学术论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |