| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1. 引言 | 第9-15页 |
| ·卢瑟福背散射分析技术概述 | 第10-11页 |
| ·纳米晶固氦材料的研究背景 | 第11-12页 |
| ·电子致原子内壳层电离截面实验研究意义 | 第12-14页 |
| ·本论文的主要内容 | 第14-15页 |
| 2. 背散射分析原理及实验装置 | 第15-35页 |
| ·卢瑟福背散射分析原理 | 第15-25页 |
| ·运动学因子 | 第15-17页 |
| ·散射截面 | 第17-19页 |
| ·能量损失因子 | 第19-23页 |
| ·背散射产额和能谱 | 第23-25页 |
| ·增强质子背散射分析 | 第25-26页 |
| ·实验装置及实验条件的选择 | 第26-32页 |
| ·实验装置 | 第26-29页 |
| ·最佳实验条件的选择 | 第29-32页 |
| ·实验仪器的刻度 | 第32-35页 |
| ·多道分析器的刻度 | 第32-33页 |
| ·加速器能量刻度 | 第33-35页 |
| 3. 纳米晶材料中氦含量的EPBS分析 | 第35-56页 |
| ·靶的制备 | 第35-39页 |
| ·材料中氦的引入方法 | 第35-38页 |
| ·靶的制备情况 | 第38-39页 |
| ·实验测量和数据分析 | 第39-54页 |
| ·实验测量条件 | 第39页 |
| ·分析程序 SIMNRA | 第39-41页 |
| ·实验数据分析 | 第41-53页 |
| ·分析结论 | 第53-54页 |
| ·谱分析中低能端本底问题 | 第54-55页 |
| ·后续工作 | 第55-56页 |
| 4. RBS测厚在电子致原子内壳层电离截面测量中的应用 | 第56-70页 |
| ·电离碰撞的量子理论和经典理论 | 第56-58页 |
| ·电离截面的量子理论计算 | 第56-57页 |
| ·电离截面的经典理论计算 | 第57-58页 |
| ·电离截面的实验测量 | 第58-61页 |
| ·测量特征 X射线产额法 | 第58-60页 |
| ·测量俄歇电子产额法 | 第60页 |
| ·能量损失法 | 第60-61页 |
| ·交束法离子产额测量法 | 第61页 |
| ·描述电离截面的部分经验半经验公式 | 第61-65页 |
| ·采用 RBS测量靶的厚度 | 第65-70页 |
| ·靶的制备 | 第65-66页 |
| ·RBS测量条件 | 第66页 |
| ·数据分析 | 第66-68页 |
| ·RBS测量的厚度对电离截面的影响 | 第68-70页 |
| 5. 本文总结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 附录 | 第78-79页 |
| 声明 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |