中、英文摘要 | 第1-7页 |
第一章 绪论 | 第7-16页 |
1.1 引言 | 第7-8页 |
1.2 本文的工作背景 | 第8-10页 |
1.3 国内外研究现状 | 第10-13页 |
1.3.1 国外研究状况 | 第10-12页 |
1.3.2 国内研究状况 | 第12-13页 |
1.4 本课题实验方法的确定 | 第13-16页 |
第二章 ZnO压敏电阻器的工作机理 | 第16-21页 |
2.1 ZnO的能带结构 | 第16-17页 |
2.2 ZnO压敏电阻器的晶界能带 | 第17-18页 |
2.3 ZnO压敏电阻器的导电机理 | 第18-19页 |
2.4 ZnO压敏电阻器常用的性能参数 | 第19-21页 |
第三章 沉淀剂和沉淀条件的选择 | 第21-34页 |
3.1 选择沉淀剂的条件 | 第21-22页 |
3.2 沉淀剂的选择 | 第22-29页 |
3.2.1 氨水 | 第22-24页 |
3.2.2 氢氧化钾 | 第24-26页 |
3.2.3 醋酸铵 | 第26-27页 |
3.2.4 碳酸氢铵 | 第27-29页 |
3.3 沉淀条件的选择 | 第29-33页 |
3.3.1 PH值的确定 | 第30-31页 |
3.3.2 阳离子水解 | 第31-33页 |
3.4 小结 | 第33-34页 |
第四章 沉淀实验与分析 | 第34-44页 |
4.1 沉淀实验 | 第34-35页 |
4.2 沉淀过程分析 | 第35-40页 |
4.2.1 胶体粒子的势能分析 | 第35-38页 |
4.2.2 缓冲沉淀剂的聚沉作用 | 第38-39页 |
4.2.3 成核后的析出过程 | 第39-40页 |
4.3 沉淀粉体的表征 | 第40-43页 |
4.3.1 粉体的形貌 | 第41页 |
4.3.2 粉体的粒度分布 | 第41-43页 |
4.4 小结 | 第43-44页 |
第五章 粉体煅烧过程中锰的相变 | 第44-52页 |
5.1 实验现象 | 第44-45页 |
5.2 基本定义与数据 | 第45-46页 |
5.3 MnO_2-Mn_2O_3-Mn_3O_4相变温度的计算 | 第46-48页 |
5.4 氢氧化钾对锰生成物的影响 | 第48-49页 |
5.5 碳酸锰热分解反应 | 第49-51页 |
5.6 小结 | 第51-52页 |
第六章 元件的制备与分析 | 第52-65页 |
6.1 元件的制备 | 第52-53页 |
6.2 化学法及物理法制成的元件性能比较 | 第53-57页 |
6.2.1 小电流特性 | 第53-56页 |
6.2.2 通流能力 | 第56-57页 |
6.3 烧结温度对元件的影响 | 第57-63页 |
6.3.1 氧化锌压敏陶瓷的烧结 | 第57-59页 |
6.3.2 烧结温度对小电流性能的影响 | 第59-62页 |
6.3.3 烧结温度对通流能力的影响 | 第62-63页 |
6.4 热处理对元件性能的影响 | 第63-64页 |
6.5 小结 | 第64-65页 |
结束语 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
附录 | 第73-78页 |