| 中文摘要 | 第1-10页 |
| 英文摘要 | 第10-13页 |
| 第一章 引言 | 第13-60页 |
| ·自旋电子学简介 | 第13-15页 |
| ·钙钛矿锰氧化物基本物理性能 | 第15-28页 |
| ·晶体结构 | 第15-17页 |
| ·晶场劈裂与Jahn-Teller效应 | 第17-19页 |
| ·磁结构与相图 | 第19-22页 |
| ·有序相 | 第22-25页 |
| ·相分离现象 | 第25-28页 |
| ·钙钛矿锰氧化物外延膜的应力与厚度效应 | 第28-51页 |
| ·外延膜中的应力 | 第29-32页 |
| ·衬底导致的应变效应 | 第32-39页 |
| ·薄膜的厚度效应 | 第39-46页 |
| ·应力厚度效应的理论模型 | 第46-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-60页 |
| 第二章 样品制备与性能测试 | 第60-70页 |
| ·靶材的制作 | 第60页 |
| ·锰氧化物外延膜的制备方法简介 | 第60-62页 |
| ·外延膜的结构表征 | 第62-68页 |
| ·X射线衍射(x-ray diffraction) | 第62-64页 |
| ·X射线倒易空间图(Reciprocal space maps) | 第64-68页 |
| ·磁性和输运性能测量 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第三章 制备条件对薄膜性能的影响 | 第70-86页 |
| ·引言 | 第70-71页 |
| ·样品制备和实验方法介绍 | 第71-72页 |
| ·靶材的制备 | 第71-72页 |
| ·薄膜样品的制备与测试 | 第72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-84页 |
| ·低氧压制备的LCMO薄膜的结构随厚度的演化 | 第72-75页 |
| ·低氧压制备的LCMO薄膜的电磁性质 | 第75-76页 |
| ·制备氧压对LCMO薄膜结构的影响 | 第76-78页 |
| ·LCMO薄膜结构和磁学性能的关系 | 第78-80页 |
| ·高氧压下制备的LCMO薄膜的结构 | 第80页 |
| ·高氧压下制各的LCMO薄膜的输运性质 | 第80-81页 |
| ·不同氧压下制备的LCMO薄膜的输运性质 | 第81-82页 |
| ·正交结构衬底上氧压对LCMO薄膜输运性质的影响 | 第82-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-86页 |
| 第四章 长度失配对薄膜性能的影响 | 第86-99页 |
| ·引言 | 第86-87页 |
| ·样品的制备与测试表征 | 第87-88页 |
| ·结果与讨论 | 第88-96页 |
| ·晶格失配引起的应变对LCMO薄膜结构的影响 | 第88-90页 |
| ·晶格失配应变对LCMO薄膜输运行为的影响 | 第90-91页 |
| ·晶格失配应变导致的LCMO薄膜结构的不均匀 | 第91-94页 |
| ·结构不均匀的LCMO薄膜的磁化曲线 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-99页 |
| 第五章 角度畸变对薄膜性能的影响 | 第99-108页 |
| ·引言 | 第99-100页 |
| ·样品的制备与测试表征 | 第100-101页 |
| ·结果与讨论 | 第101-106页 |
| ·外延薄膜晶格畸变随厚度的演化规律 | 第101-105页 |
| ·LCMO晶格畸变对输运性质的影响 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第六章 角度失配对薄膜性能的影响 | 第108-117页 |
| ·引言 | 第108-109页 |
| ·样品的制备与测试表征 | 第109-110页 |
| ·结果与讨论 | 第110-115页 |
| ·外延薄膜晶格表示法的转变 | 第110-111页 |
| ·角度失配对LCMO外延膜电磁性质的影响 | 第111-114页 |
| ·面内角度失配对LCMO外延膜结构的影响 | 第114-115页 |
| ·本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-117页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文与获奖情况 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119页 |