| 目录 | 第1-3页 |
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-11页 |
| ·硅应用简介 | 第6页 |
| ·硅纳米晶的光致发光简介 | 第6-8页 |
| ·硅纳米晶的电致发光简介 | 第8-11页 |
| 第二章 镶嵌在SiO_2介质中的纳米晶硅的制备和表征 | 第11-17页 |
| ·制备硅纳米晶的各种方法 | 第11页 |
| ·热蒸发SiO和电子束蒸发Si、SiO_2制备硅纳米晶 | 第11-15页 |
| ·硅纳米晶的表征 | 第15-17页 |
| 第三章 通过CO_2激光预退火调制硅纳米晶的光致发光 | 第17-30页 |
| ·关于激光预退火 | 第17-20页 |
| ·激光预退火在石英衬底样品上的应用 | 第20-23页 |
| ·激光预退火在P型Si衬底样品上的应用 | 第23-26页 |
| ·SiO_2夹层的引进及其作用 | 第26-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第四章 镶嵌在SiO_2介质中的硅纳米晶的电致发光研究 | 第30-51页 |
| ·硅纳米晶电致发光的结构 | 第30-32页 |
| ·硅纳米晶电致发光的测试 | 第32-33页 |
| ·硅纳米晶电致发光所需真空度的确定 | 第33-34页 |
| ·SiO/Si多层结构的确立 | 第34-37页 |
| ·激光预退火的点密度与多层纳晶硅发光的关系 | 第37-45页 |
| ·激光预退火的点密度与多层纳晶硅光致发光的关系 | 第38-40页 |
| ·激光预退火的点密度与多层纳晶硅电致发光的关系 | 第40-45页 |
| ·激光预退火的功率控制与多层纳晶硅发光的关系 | 第45-50页 |
| ·激光预退火的功率控制与多层纳晶硅光致发光的关系 | 第45-47页 |
| ·激光预退火的功率控制与多层纳晶硅电致发光的关系 | 第47-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 硕士期间发表论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
