直流溅射法制备YBCO带材研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-22页 |
| ·超导材料简介 | 第9页 |
| ·高温超导带材的应用 | 第9-11页 |
| ·高温超导带材的发展 | 第11-14页 |
| ·第一代铋系高温超导带材 | 第11-13页 |
| ·第二代钇系高温超导带材 | 第13-14页 |
| ·第二代钇系高温超导带材的制备 | 第14-18页 |
| ·金属基带的选择 | 第15-16页 |
| ·缓冲层的选择 | 第16-17页 |
| ·超导层的制备方法 | 第17-18页 |
| ·YBCO 涂层导体研究现状 | 第18-20页 |
| ·论文的选题依据和研究方案 | 第20-22页 |
| 第二章 实验方法和表征 | 第22-29页 |
| ·直流溅射制膜技术 | 第22-23页 |
| ·实验装置 | 第23-24页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第24-27页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜 | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| ·YBCO 薄膜的电性能分析 | 第27-29页 |
| 第三章 平面靶溅射YBCO 薄膜的工艺研究 | 第29-35页 |
| ·平面靶溅射的特点 | 第29-30页 |
| ·倒筒靶溅射的特点 | 第30-31页 |
| ·对平面靶溅射工艺的改进 | 第31-35页 |
| ·提高薄膜沉积时的气压 | 第32-33页 |
| ·基片旋转形成离轴模式 | 第33-35页 |
| 第四章 金属基带上YBCO 涂层导体的工艺研究 | 第35-49页 |
| ·CYC 缓冲层表征 | 第35-38页 |
| ·基片温度的影响 | 第38-45页 |
| ·基片温度对结构的影响 | 第38-43页 |
| ·基片温度对表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·基片温度对性能的影响 | 第44-45页 |
| ·溅射气氛的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 卷绕方式下YBCO 涂层导体生长初探 | 第49-55页 |
| ·单层膜的制备研究 | 第50-51页 |
| ·多层膜对YBCO 结构和性能的影响 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第61-62页 |
