3，4-乙撑二氧噻吩的合成研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·导电聚合物的导电机理 | 第10-13页 |
| ·聚(3,4-乙撑二氧噻吩)的研究概述 | 第13-17页 |
| ·聚(3,4-乙撑二氧噻吩)的研究现状 | 第13页 |
| ·PEDT的合成 | 第13-17页 |
| ·化学氧化聚合法 | 第14-15页 |
| ·电化学聚合 | 第15-16页 |
| ·固态聚合法 | 第16-17页 |
| ·过渡金属偶联聚合法 | 第17页 |
| ·PEDT的应用 | 第17-20页 |
| ·用于抗静电涂层 | 第17-18页 |
| ·在固体电解电容器上的应用 | 第18页 |
| ·PEDT的其他应用 | 第18-20页 |
| ·存在的问题及选题意义 | 第20-21页 |
| 第二章 EDOT的研究概述 | 第21-32页 |
| ·EDOT的研究现状 | 第21-22页 |
| ·EDOT的合成 | 第22-27页 |
| ·EDOT的Jonas合成法 | 第22-24页 |
| ·EDOT的醚交换合成法 | 第24-26页 |
| ·两种合成路线的比较 | 第26-27页 |
| ·脱羧反应中的相关原理 | 第27-32页 |
| ·脱羧反应原理 | 第27-28页 |
| ·催化原理 | 第28-30页 |
| ·溶剂效应 | 第30-32页 |
| 第三章 实验 | 第32-39页 |
| ·实验药品于仪器 | 第32-34页 |
| ·药品和试剂 | 第32-33页 |
| ·实验仪器和装置 | 第33-34页 |
| ·实验步骤 | 第34-39页 |
| ·催化剂的制备 | 第34-35页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩的合成 | 第35-36页 |
| ·脱羧制备3,4-乙撑二氧噻吩的优化试验 | 第36-38页 |
| ·催化剂的表征 | 第38-39页 |
| ·物相分析 | 第38页 |
| ·形貌分析 | 第38页 |
| ·热稳定性分析 | 第38-39页 |
| 第四章 结果分析及讨论 | 第39-73页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩的结构表征 | 第39-44页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩元素分析 | 第39-40页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩的红外光谱分析 | 第40-41页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩的~1H-NMR谱分析 | 第41-42页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩的纯度分析 | 第42-44页 |
| ·脱羧制备EDOT工艺研究 | 第44-61页 |
| ·催化剂的选择 | 第44-46页 |
| ·溶剂的选择 | 第46-49页 |
| ·3,4-乙撑二氧噻吩合成工艺的优化 | 第49-60页 |
| ·以Cu(Ⅱ)为催化剂的正交试验 | 第50-51页 |
| ·以Cu(Ⅲ)为催化剂的正交试验 | 第51-53页 |
| ·以Cu(Ⅳ)为催化剂的正交试验 | 第53-55页 |
| ·以Cu(Ⅴ)为催化剂的正交实验 | 第55-56页 |
| ·以CuO为催化剂的正交实验 | 第56-58页 |
| ·以碱式碳酸铜Ⅰ为催化剂的正交实验 | 第58-59页 |
| ·正交实验总结 | 第59-60页 |
| ·反应时间对3,4-乙撑二氧噻吩合成的影响 | 第60-61页 |
| ·脱羧反应中的机理研究 | 第61-72页 |
| ·脱羧机理研究 | 第61-62页 |
| ·催化机理分析 | 第62-70页 |
| ·催化剂的物相结构分析 | 第63-64页 |
| ·催化剂的表面形貌分析 | 第64-66页 |
| ·催化剂的热稳定性分析 | 第66-68页 |
| ·催化剂在脱羧反应中的作用机理分析 | 第68-70页 |
| ·溶剂化效应分析 | 第70-72页 |
| ·有待深入研究的问题 | 第72-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第79-80页 |
| 附录1 | 第80-81页 |
| 附录2 | 第81-82页 |
| 附录3 | 第82-88页 |
