电晕枪放电特性的机理研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-14页 |
| ·等离子体概述 | 第10-13页 |
| ·等离子体的分类 | 第10-12页 |
| ·等离子体物理研究方法 | 第12页 |
| ·等离子体物理发展年表 | 第12-13页 |
| ·低温等离子体概述 | 第13-14页 |
| 第二章 电晕放电原理 | 第14-27页 |
| ·电晕放电简介 | 第14-16页 |
| ·汤生放电理论 | 第16-18页 |
| ·气体放电分类 | 第16-17页 |
| ·汤生放电系数 | 第17页 |
| ·电子雪崩解释 | 第17-18页 |
| ·次级电子发射 | 第18页 |
| ·空间电荷影响 | 第18-20页 |
| ·流光形成理论 | 第20-23页 |
| ·电晕放电机理 | 第23-27页 |
| ·正电晕 | 第23-24页 |
| ·负电晕 | 第24-27页 |
| 第三章 实验装置 | 第27-30页 |
| ·半导体测试技术简介 | 第27页 |
| ·电晕枪的结构 | 第27-28页 |
| ·工作电路的连接 | 第28-29页 |
| ·实验的工作步骤 | 第29-30页 |
| 第四章 理论模型 | 第30-46页 |
| ·等离子体模拟方法 | 第30-36页 |
| ·粒子模拟 | 第31-34页 |
| ·流体模拟 | 第34-35页 |
| ·混合模拟 | 第35-36页 |
| ·电晕枪建模 | 第36-46页 |
| ·电场建模 | 第36-40页 |
| ·漂移建模 | 第40-42页 |
| ·电离建模 | 第42-46页 |
| 第五章 结果与分析 | 第46-64页 |
| ·电晕枪放电效果 | 第46-47页 |
| ·极间电压的影响 | 第47-50页 |
| ·工作气体的影响 | 第50-58页 |
| ·氩气 | 第50-52页 |
| ·氮气 | 第52-55页 |
| ·氧气 | 第55-57页 |
| ·讨论 | 第57-58页 |
| ·外加电场的影响 | 第58-63页 |
| ·Focus的影响 | 第59-61页 |
| ·Mask的影响 | 第61-62页 |
| ·Aperture的影响 | 第62-63页 |
| ·其它的影响因素 | 第63-64页 |
| 第六章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 附录A 拉普拉斯方程的柱坐标形式推导 | 第69-71页 |
| 附录B 数值分析方法 | 第71-72页 |
| 作者简历和学术成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
