| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·（TI,AL）N 薄膜的结构、性能与应用 | 第13-16页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的结构 | 第13页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜与TiN 薄膜的性能比较 | 第13-15页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的主要应用 | 第15-16页 |
| ·（TI,AL）N 薄膜的主要制备与表征 | 第16-17页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的表征 | 第17页 |
| ·工艺参数对（TI,AL）N 薄膜性能的影响 | 第17-21页 |
| ·Al 含量 | 第17-18页 |
| ·氮气分压 | 第18-20页 |
| ·基体偏压 | 第20-21页 |
| ·（TI,AL）N 系列薄膜的发展 | 第21-24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 （TI,AL）N 薄膜的制备与表征 | 第27-40页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·反应磁控溅射原理 | 第27-31页 |
| ·磁控溅射 | 第27-30页 |
| ·反应磁控溅射 | 第30-31页 |
| ·制膜设备 | 第31-32页 |
| ·制膜工艺 | 第32-34页 |
| ·基体材料的选择与预处理 | 第32-33页 |
| ·Ti-Al 靶的设计 | 第33-34页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第34页 |
| ·薄膜表征 | 第34-38页 |
| ·扫描电镜（SEM，Scanning Electron Microscope） | 第34-35页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD，X-Ray Diffraction） | 第35页 |
| ·能量色散谱仪（EDS，Energy Dispersive Spectrometer） | 第35-36页 |
| ·X 光电子能谱仪（XPS，X-ray Photoelectron Spectroscope） | 第36页 |
| ·原子力显微镜（AFM，Atomic Force Microscope） | 第36页 |
| ·纳米压入硬度测试仪 | 第36-37页 |
| ·其他测试分析仪器 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第三章 （TI,AL）N 薄膜的微观组织结构、成分与力学性能 | 第40-51页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·试验过程 | 第40-42页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的微观组织结构、成分与力学性能表征 | 第41-42页 |
| ·试验结果与讨论 | 第42-49页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的厚度 | 第42-43页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的表面形貌 | 第43页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的化学成分 | 第43-44页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的微观组织结构与化学价态 | 第44-48页 |
| ·（Ti,Al）N 薄膜的力学性能 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第四章 工艺参数对（TI,AL）N 薄膜性能的影响 | 第51-69页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·反应气体分压对（TI,AL）N 薄膜性能的影响 | 第51-60页 |
| ·反应气体分压对（Ti,Al）N 薄膜厚度的影响 | 第52页 |
| ·反应气体分压对（Ti,Al）N 薄膜表面形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·反应气体分压对（Ti,Al）N 薄膜化学成分的影响 | 第54-56页 |
| ·反应气体分压对（Ti,Al）N 薄膜微观组织的影响 | 第56-58页 |
| ·反应气体分压对（Ti,Al）N 薄膜力学性能的影响 | 第58-60页 |
| ·基体偏压对（TI,AL）N 薄膜性能的影响 | 第60-66页 |
| ·基体偏压对（Ti,Al）N 薄膜表面形貌的影响 | 第60-63页 |
| ·基体偏压对（Ti,Al）N 薄膜化学成分的影响 | 第63-64页 |
| ·基体偏压对（Ti,Al）N 薄膜力学性能的影响 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第五章 结论 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第72页 |
