| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-16页 |
| ·液晶显示产业概况 | 第9-13页 |
| ·液晶阵列工艺技术的发展动态 | 第13-14页 |
| ·金属钼干法刻蚀的研究动态 | 第14-15页 |
| ·本论文的内容安排 | 第15-16页 |
| 第二章 液晶面板的工作原理、制造工艺及4MASK 技术 | 第16-28页 |
| ·液晶显示器的结构及基本工作原理 | 第16-20页 |
| ·液晶面板制造工艺 | 第20-24页 |
| ·阵列工艺的改进－4MASK 技术 | 第24-28页 |
| 第三章 薄膜晶体管沟道刻蚀实验 | 第28-56页 |
| ·样片的制备 | 第29-30页 |
| ·干法刻蚀设备及其原理 | 第30-39页 |
| ·光刻胶灰化实验 | 第39-44页 |
| ·金属钼干法刻蚀实验 | 第44-48页 |
| ·刻蚀的参数及其测量 | 第48-56页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第56-71页 |
| ·灰化实验测试结果及分析 | 第56-62页 |
| ·金属钼干法刻蚀的分析 | 第62-70页 |
| ·氯气的后腐蚀 | 第70-71页 |
| 第五章 结论 | 第71-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表和录用的学术论文 | 第79-80页 |