| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| §1.1 引言 | 第8-9页 |
| §1.2 磁性薄膜的分类及其制备方法 | 第9-11页 |
| §1.3 钴铂磁性薄膜的研究现状 | 第11-17页 |
| §1.3.1 CoPt薄膜的研究进展 | 第12-15页 |
| §1.3.2 CoPt_3薄膜的研究进展 | 第15-17页 |
| §1.4 电化学沉积法制备钴铂薄膜的研究进展 | 第17-23页 |
| 第二章 实验内容和测试方法 | 第23-34页 |
| §2.1 实验内容 | 第23页 |
| §2.2 实验方案 | 第23-24页 |
| §2.3 测试仪器与方法 | 第24-34页 |
| §2.3.1 电化学测试方法 | 第24-27页 |
| §2.3.2 测试仪器 | 第27-34页 |
| 第三章 Co-Pt-W(P)磁性薄膜的制备 | 第34-45页 |
| §3.1 样品制备 | 第34-39页 |
| §3.1.1 电化学沉积法原理 | 第34-36页 |
| §3.1.2 金属离子在阴极的电沉积 | 第36-37页 |
| §3.1.3 镀液的组成与基本类型 | 第37-38页 |
| §3.1.4 金属络离子的电化学还原 | 第38页 |
| §3.1.5 镀液的配制及反应机理 | 第38-39页 |
| §3.2 正交实验法优化工艺条件 | 第39-44页 |
| §3.2.1 电沉积法制备Co-Pt-W(P)薄膜的正交实验设计 | 第40-41页 |
| §3.2.2 正交实验数据分析 | 第41-42页 |
| §3.2.3 优化制备条件下性能、组成及结构分析 | 第42-44页 |
| §3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 电解液组成及工艺条件对Co-Pt-W(P)合金薄膜的影响 | 第45-63页 |
| §4.1 电解液组成对Co-Pt-W(P)合金薄膜电沉积过程、组成以及磁性能的影响 | 第45-51页 |
| §4.1.1 不同主盐组份电解液的循环伏安研究 | 第45-46页 |
| §4.1.2 主盐浓度对Co-Pt-W(P)合金薄膜组成的影响 | 第46-47页 |
| §4.1.3 络合剂浓度对Co-Pt-W(P)合金磁性薄膜的影响 | 第47-50页 |
| §4.1.4 电解液PH值对Co-Pt-W(P)合金磁性薄膜的影响 | 第50-51页 |
| §4.2 工艺条件对Co-Pt-W(P)薄膜结构、形貌和磁性能的影响 | 第51-61页 |
| §4.2.1 温度对Co-Pt-W(P)薄膜的影响 | 第51-56页 |
| §4.2.2 电流密度对Co-Pt-W(P)薄膜的影响 | 第56-59页 |
| §4.2.3 沉积时间对Co-Pt-W(P)薄膜的影响 | 第59-61页 |
| §4.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 硕士期间发表论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
