| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-25页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·纳米氧化钛的光催化原理 | 第12-17页 |
| ·纳米半导体的特殊性质 | 第12-13页 |
| ·TiO_2 的晶体结构及基本特性 | 第13-14页 |
| ·纳米TiO_2 光催化反应原理 | 第14-15页 |
| ·影响TiO_2 光催化效率的因素 | 第15-16页 |
| ·提高TiO_2 光催化效率的途径 | 第16-17页 |
| ·常用的薄膜制备工艺 | 第17-20页 |
| ·溅射沉积 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积 | 第18-19页 |
| ·液相沉积法 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| ·TiO_2 光催化薄膜的应用 | 第20-23页 |
| ·在水污染处理中的应用 | 第20页 |
| ·在建材方面的应用 | 第20-21页 |
| ·在环境净化方面的应用 | 第21-23页 |
| ·在空调系统中的应用 | 第23页 |
| ·目前存在的问题 | 第23-24页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第24-25页 |
| 2 溅射镀膜原理 | 第25-29页 |
| ·溅射机理及特点 | 第25-26页 |
| ·基本溅射类型 | 第26-29页 |
| ·直流溅射 | 第26-27页 |
| ·射频溅射 | 第27页 |
| ·反应溅射 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射 | 第28-29页 |
| 3 实验 | 第29-33页 |
| ·实验设备及材料 | 第29页 |
| ·样品制备方案 | 第29-30页 |
| ·试验流程 | 第30页 |
| ·基片前处理 | 第30-31页 |
| ·薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第32-33页 |
| 4 TiO_2:W 薄膜的光催化性能和结构研究 | 第33-52页 |
| ·工艺参数对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第33-40页 |
| ·O_2 分量对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第33-35页 |
| ·直流溅射功率对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第35-36页 |
| ·偏压对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第36-38页 |
| ·W 掺杂方式对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第38-39页 |
| ·W 掺杂量对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第39-40页 |
| ·其它工艺参数的影响 | 第40页 |
| ·薄膜厚度对TiO_2:W 薄膜光催化性能的影响 | 第40-42页 |
| ·光照时间对光催化降解性能的影响 | 第42-43页 |
| ·TiO_2:W 薄膜对罗丹明B 的光催化降解 | 第43-44页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的吸收光谱分析 | 第44-45页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的亲水性测试 | 第45-46页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的结构分析 | 第46-50页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的XRD 分析 | 第47页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的XPS 分析 | 第47-49页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的AFM 分析 | 第49页 |
| ·TiO_2:W 薄膜的STS 分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 5 TiO_2 :Ni 薄膜的制备及分析 | 第52-60页 |
| ·工艺参数对TiO_2:Ni 薄膜光催化活性的影响 | 第53-58页 |
| ·氧流量对薄膜光催化活性的影响 | 第53-54页 |
| ·溅射功率对薄膜光催化活性的影响 | 第54-55页 |
| ·偏压对薄膜光催化性能的影响 | 第55-56页 |
| ·掺杂时间对薄膜光催化性能的影响 | 第56页 |
| ·溅射温度对薄膜光催化性能的影响 | 第56-57页 |
| ·溅射时间对薄膜光催化性能的影响 | 第57-58页 |
| ·Ni 掺杂TiO_2 薄膜透光率的分析 | 第58-59页 |
| ·薄膜的晶相组成分析 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 6 结论 | 第60-61页 |
| 7 后续工作 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 附录 | 第67-68页 |
