| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 主要符号表 | 第10-11页 |
| 第1章 引言 | 第11-22页 |
| ·纳米科学和技术的目标 | 第11-12页 |
| ·纳米科技的实验进展 | 第12-14页 |
| ·纳米材料的合成 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的表征 | 第13页 |
| ·纳米材料的组装 | 第13-14页 |
| ·研究纳米材料的第一原理方法 | 第14-20页 |
| ·量子多体问题 | 第14-16页 |
| ·密度泛函理论 | 第16-17页 |
| ·超越DFT的方法 | 第17-18页 |
| ·O(N)算法的发展 | 第18页 |
| ·赝势 | 第18-19页 |
| ·结构优化 | 第19页 |
| ·系综和分子动力学模拟 | 第19-20页 |
| ·计算平台的发展 | 第20页 |
| ·论文内容和安排 | 第20-22页 |
| 第2章 金属键优选法对钠团簇的研究 | 第22-42页 |
| ·化学反应的物理基础 | 第23-25页 |
| ·钠团簇结构的理论和实验研究 | 第25页 |
| ·Na_2和Na_3结构的理论研究 | 第25-27页 |
| ·金属键优选法对Na_n(4≤n≤15)的研究 | 第27-36页 |
| ·钠团簇质谱的研究 | 第36-39页 |
| ·结论 | 第39-42页 |
| 第3章 铋纳米管的结构和电子性质 | 第42-56页 |
| ·αBi晶体和铋层的结构 | 第43-44页 |
| ·铋纳米管的结构优化及其力学性质研究 | 第44-49页 |
| ·αBi晶体和铋层的电子性质 | 第49-51页 |
| ·铋纳米管的电子结构 | 第51-54页 |
| ·结论 | 第54-56页 |
| 第4章 Si(15，3，23)表面再构的第一原理研究 | 第56-65页 |
| ·硅的稳定高指数表面及其家族领地 | 第56-57页 |
| ·Si(15，3，23)表面的实验结果 | 第57-58页 |
| ·STM的工作原理 | 第58-59页 |
| ·STM像的Tersoff-Hamann模型 | 第59-60页 |
| ·Si(15，3，23)表面的原子构形和再构模型 | 第60-61页 |
| ·Si(15，3，23)再构表面的优化和STM像理论模拟 | 第61-64页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 致谢及声明 | 第72-73页 |
| 个人简历 | 第73-74页 |