磁过滤真空阴极弧等离子体制备四面体非晶碳膜
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-23页 |
| ·选题意义 | 第7-8页 |
| ·磁过滤阴极弧简介 | 第8-15页 |
| ·阴极弧的发展 | 第8页 |
| ·阴极弧工作原理及基本特征 | 第8-9页 |
| ·磁过滤阴极弧沉积的特点 | 第9-13页 |
| ·磁过滤阴极弧的应用 | 第13-15页 |
| ·DLC膜发展现状、性能、应用及存在的问题 | 第15-22页 |
| ·类金刚石膜简介 | 第15-16页 |
| ·类金刚石膜的发展 | 第16-17页 |
| ·类金刚石膜的性能 | 第17-18页 |
| ·类金刚石膜的应用 | 第18-20页 |
| ·类金刚石膜的制备方法 | 第20-22页 |
| ·本文的研究内容 | 第22-23页 |
| 2 磁过滤阴极弧系统 | 第23-35页 |
| ·脉冲磁过滤阴极弧系统简介 | 第23-29页 |
| ·阴极弧源系统 | 第23-25页 |
| ·磁过滤系统 | 第25页 |
| ·基片台 | 第25页 |
| ·真空系统 | 第25-26页 |
| ·电源系统 | 第26页 |
| ·实验参数对收集电流的影响 | 第26-29页 |
| ·直流磁过滤阴极弧沉积系统简介 | 第29-33页 |
| ·磁场位形 | 第30页 |
| ·等离子体特性测量 | 第30-33页 |
| ·实验工艺 | 第33-35页 |
| ·基片的处理 | 第33页 |
| ·实验参数 | 第33-35页 |
| 3 四面体非晶碳膜特征分析 | 第35-49页 |
| ·四面体非晶碳膜的结构分析 | 第35-41页 |
| ·Raman光谱分析简介 | 第35-36页 |
| ·制得样品的Raman光谱分析 | 第36-40页 |
| ·反射高能电子衍射(RHEED) | 第40-41页 |
| ·四面体非晶碳膜的形貌分析 | 第41-44页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第41-42页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第42-44页 |
| ·摩擦磨损性能测试 | 第44-47页 |
| ·硬度 | 第47页 |
| ·电阻 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 4 影响四面体非晶碳膜生长的因素 | 第49-55页 |
| ·薄膜生长基本过程 | 第49页 |
| ·粒子能量对类金刚石膜生长的影响 | 第49-55页 |
| 5 结论 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 在读期间发表的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
