| 第一章： 引言 | 第1-11页 |
| 第二章： ZnO的特性和研究进展 | 第11-17页 |
| 2．1 ZnO的基本特性 | 第11-12页 |
| 2．2 ZnO的研究进展 | 第12-17页 |
| 第三章： 等离子体化学汽相沉积方法的特点及样品的表征手段 | 第17-31页 |
| 3．1 等离子体的基本特征 | 第17-19页 |
| 3．2 等离子体化学汽相沉积的工艺设备 | 第19-21页 |
| 3．3 样品的分析和表征手段 | 第21-31页 |
| 3．3．1 X-射线衍射谱 | 第21-23页 |
| 3．3．2 原子力显微成像 | 第23-24页 |
| 3．3．3 晶体吸收谱 | 第24-27页 |
| 3．3．4 光致发光光谱 | 第27-29页 |
| 3．3．5 光电子能谱（XPS）谱 | 第29-31页 |
| 第四章： 纳米氧化锌薄膜的制备 | 第31-42页 |
| 4．1 衬底温度对氧化锌薄膜质量的影响 | 第31-37页 |
| 4．1．1 实验过程 | 第31-32页 |
| 4．1．2 结果和讨论 | 第32-37页 |
| 4．1．3 结论 | 第37页 |
| 4．2 退火温度对氧化锌质量的影响 | 第37-42页 |
| 4．2．1 退火温度对氧化锌质量影响的结构分析 | 第37-39页 |
| 4．2．2 光学性质的研究 | 第39-41页 |
| 4．2．3 结论 | 第41-42页 |
| 第五章： 二氧化硅薄膜的制备 | 第42-48页 |
| 5．1 SiO_2薄膜的制备和光学性质的研究 | 第42-45页 |
| 5．1．1 实验过程 | 第42页 |
| 5．1．2 薄膜样品组分分析 | 第42-43页 |
| 5．1．3 光学性质的研究 | 第43-45页 |
| 5．1．4 结论 | 第45页 |
| 5．2 退火温度对SiO_2基质中包埋ZnO量子点光学性质的影响 | 第45-48页 |
| 5．2．1 实验过程 | 第45-46页 |
| 5．2．2 结果分析 | 第46-47页 |
| 5．2．3 结论 | 第47-48页 |
| 第六章： 结论 | 第48-49页 |
| 附录： 参考文献 | 第49-56页 |
| 发表文章 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56页 |