过程控制图的最优设计与分析
| 第一章 绪论 | 第1-15页 |
| ·21世纪--质量的世纪 | 第7页 |
| ·统计过程控制(SPC) | 第7-8页 |
| ·工序过程控制的背景 | 第8-13页 |
| ·波动引起产品缺陷 | 第9页 |
| ·波动产生的原因 | 第9-10页 |
| ·随机变量的统计规律性 | 第10-12页 |
| ·新质量损失原理 | 第12-13页 |
| ·控制图的基本原理 | 第13页 |
| ·本文的内容和意义 | 第13-14页 |
| ·本章小结 | 第14-15页 |
| 第二章 控制图性能的度量 | 第15-19页 |
| ·ARL简介 | 第15-16页 |
| ·APL的基本原理 | 第16-18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 正态分布下控制图的设计分析 | 第19-37页 |
| ·休哈特控制图的设计思想 | 第19页 |
| ·用APL进行控制方案的设计 | 第19-21页 |
| ·设计方案的灵敏度分析 | 第21-29页 |
| ·设计效果比较 | 第29-31页 |
| ·稳健性设计分析 | 第31-34页 |
| ·稳健设计的基本原理 | 第31-32页 |
| ·稳健设计的两阶段法 | 第32页 |
| ·控制图的稳健设计 | 第32-34页 |
| ·设计方法的使用 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 偏态分布情况下的控制图设计和分析 | 第37-50页 |
| ·赋权方差(WV)方法 | 第37-39页 |
| ·控制方案的设计 | 第39-40页 |
| ·最优设计灵敏度分析 | 第40-45页 |
| ·偏态最优设计与一般方法的比较 | 第45-46页 |
| ·偏态情况的稳健设计 | 第46-48页 |
| ·偏态情况最优设计的使用 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 小样本、小批量控制图的设计 | 第50-58页 |
| ·目标图和比例图 | 第50-52页 |
| ·同分布变换 | 第52页 |
| ·小样本控制图的构造 | 第52-53页 |
| ·IX-MR控制图的效果评价 | 第53-56页 |
| ·IX-MR图设计的稳健性分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 小波动控制图的设计和分析 | 第58-68页 |
| ·改进的小波动控制图 | 第58-63页 |
| ·EWMA图的设计 | 第63-66页 |
| ·EWMA图最优设计的应用 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第七章 计数控制图的设计与分析 | 第68-76页 |
| ·几种常用的计数控制图 | 第68-71页 |
| ·计数控制图的最优设计 | 第71-75页 |
| ·当以泊松分布为统计基础时 | 第71-72页 |
| ·当以几何分布为统计基础时 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 结束语 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
