| 中文摘要 | 第1-10页 |
| 英文摘要 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| §1．1 微波电子回旋共振（ECR）等离子体 | 第12-17页 |
| 1．1．1 电子回旋共振等离子体的特点 | 第12-13页 |
| 1．1．2 电子回旋共振等离子体的基本原理 | 第13-17页 |
| §1．2 氟化非晶碳薄膜的研究概况 | 第17-23页 |
| 1．2．1 研究背景 | 第17-18页 |
| 1．2．2 低介电常数的薄膜材料 | 第18-19页 |
| 1．2．3 a-C:F:H薄膜的研究概况 | 第19-23页 |
| §1．3 本文的主要研究内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-28页 |
| 第二章 ECR等离子体中基片刻蚀与薄膜的沉积 | 第28-41页 |
| §2．1 引言 | 第28页 |
| §2．2 微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积装置 | 第28-30页 |
| §2．3 不同前驱气体下Si和SiO_2表面刻蚀与薄膜的沉积 | 第30-32页 |
| §2．4 ECR等离子体的刻蚀 | 第32-39页 |
| 2．4．1 等离子体的刻蚀过程 | 第32-34页 |
| 2．4．2 等离子体组成及其反应 | 第34-35页 |
| 2．4．3 刻蚀的各向异性 | 第35-36页 |
| 2．4．4 刻蚀的选择性 | 第36-39页 |
| §2．5 本章小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三章 a-C:F:H薄膜的制备、结构与性能的表征 | 第41-53页 |
| §3．1 引言 | 第41页 |
| §3．2 基片预处理 | 第41-42页 |
| §3．3 ECRCVD法制备a-C:F:H薄膜 | 第42-43页 |
| §3．4 a-C:F:H薄膜的结构和性能表征方法 | 第43-51页 |
| 3．4．1 傅立叶变换红外吸收光谱（FTIR） | 第43-45页 |
| 3．4．2 X射线光电子能谱（XPS） | 第45-48页 |
| 3．4．3 紫外及可见光谱（UV-VIS） | 第48-51页 |
| 3．4．4 X射线衍射（XRD），扫描电镜（SEM），透射电镜（TEM） | 第51页 |
| 3．4．5 阻抗分析仪，小电流测试仪，台阶仪 | 第51页 |
| §3．5 本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 ECRCVD工艺参量对a-C:F:H薄膜的结构影响 | 第53-77页 |
| §4．1 引言 | 第53页 |
| §4．2 前驱气体的种类及其流量比 | 第53-62页 |
| 4．2．1 CH_4/CHF_3 | 第53-58页 |
| 4．2．2 C_2H_2/CHF_3 | 第58-60页 |
| 4．2．3 C_6H_6/CHF_3 | 第60-62页 |
| §4．3 沉积气压 | 第62-65页 |
| §4．4 基片的位置 | 第65-68页 |
| §4．5 微波输入功率 | 第68-72页 |
| §4．6 ECRCVD法制备a-C:F:H薄膜的生长模型 | 第72-73页 |
| §4．7 本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 第五章 a-C:F:H薄膜的介电性及其热稳定性 | 第77-92页 |
| §5．1 引言 | 第77页 |
| §5．2 a-C:F:H薄膜的介电频谱 | 第77-81页 |
| §5．3 a-C:F:H薄膜的热稳定性 | 第81-89页 |
| 5．3．1 源气体为CHF_3/CH_4所制备的薄膜的热稳定性 | 第81-86页 |
| 5．3．2 源气体为CHF_3/C_6H_6所制备的薄膜的热稳定性 | 第86-89页 |
| §5．4 本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-92页 |
| 第六章 a-C:F:H、a-C:H薄膜的电学性质 | 第92-104页 |
| §6．1 引言 | 第92页 |
| §6．2 a-C/a-C:F:H/a-C夹心结构的电学特性 | 第92-99页 |
| 6．2．1 MIM和MIS结构的制作 | 第92-94页 |
| 6．2．2 a-C/a-C:F:H/a-C结构的介电常数 | 第94-95页 |
| 6．2．3 a-C/a-C:F:H/a-C结构的Ⅰ-Ⅴ特性 | 第95-96页 |
| 6．2．4 a-C/a-C:F:H/a-C结构在高频下的电容-电压（C-V）特性 | 第96-99页 |
| §6．3 a-C:H薄膜的电学特性 | 第99-102页 |
| §6．4 本章小结 | 第102页 |
| 参考文献 | 第102-104页 |
| 第七章 结论 | 第104-105页 |
| 发表学术论文列表 | 第105-106页 |
| 论文创新性说明 | 第106-107页 |
| 致谢 | 第107页 |
