| 第一章 引言 | 第1-9页 |
| 1．1 硅基发光材料研究的背景及意义 | 第5-6页 |
| 1．2 硅基发光材料研究的发展 | 第6-8页 |
| 1．3 本论文的研究思路和主要内容 | 第8-9页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征 | 第9-19页 |
| 2．1 薄膜的制备、后处理 | 第9-10页 |
| 2．2 电致发光的器件 | 第10页 |
| 2．3 Si-SiO_2薄膜的表征 | 第10-12页 |
| 2．4 Ge-SiO_2薄膜的表征 | 第12-15页 |
| 2．5 Al-Si-SiO_2薄膜的表征 | 第15-16页 |
| 2．6 AI-Ge-SiO_2薄膜的表征 | 第16-19页 |
| 第三章 Si-SiO_2薄膜和Ge-SiO_2薄膜的发光研究 | 第19-29页 |
| 3．1 固体的发光 | 第19-20页 |
| 3．2 Si-SiO_2薄膜发光结果 | 第20-24页 |
| 3．3 Ge-SiO_2薄膜发光结果 | 第24-25页 |
| 3．4 发光机理的讨论 | 第25-29页 |
| 第四章 Al-Si-SiO_2薄膜和Al-Ge-SiO_2薄膜的发光研究 | 第29-34页 |
| 4．1 Al-Si-SiO_2薄膜发光结果 | 第29-30页 |
| 4．2 Al-Ge-SiO_2薄膜发光结果 | 第30-32页 |
| 4．3 讨论 | 第32-34页 |
| 第五章 结语 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |
| 硕士期间发表论文目录 | 第38-39页 |
| 致谢 | 第39页 |