二氧化钛光催化材料的制备及性能评价
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| Contents | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-27页 |
| ·TiO_2半导体光催化技术 | 第14-16页 |
| ·TiO_2光催化剂的光催化原理 | 第16-17页 |
| ·TiO_2光催化活性的影响因素 | 第17-20页 |
| ·TiO_2自身的性质 | 第17-19页 |
| ·TiO_2的修饰改性 | 第19页 |
| ·光催化反应系统的工艺条件 | 第19-20页 |
| ·光源与光强 | 第20页 |
| ·TiO_2的制备 | 第20-23页 |
| ·气相法 | 第20-21页 |
| ·液相法 | 第21-23页 |
| ·TiO_2的负载 | 第23-25页 |
| ·载体 | 第23-24页 |
| ·负载化技术 | 第24-25页 |
| ·本课题的提出和意义 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-34页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第27-28页 |
| ·实验仪器 | 第27页 |
| ·化学原料 | 第27-28页 |
| ·分析测试方法 | 第28-30页 |
| ·X射线衍射分析 | 第28-29页 |
| ·紫外—可见吸收光谱 | 第29页 |
| ·傅里叶变换红外光谱 | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第30页 |
| ·光催化性能的测试 | 第30-34页 |
| ·光催化降解装置 | 第30-31页 |
| ·模拟污染物 | 第31-32页 |
| ·光催化降解实验方案 | 第32页 |
| ·空白实验和暗反应实验 | 第32-34页 |
| 第三章 TiO_2光催化剂的制备及性能测试 | 第34-50页 |
| ·溶胶—凝胶法的原理 | 第34-35页 |
| ·水解反应 | 第34-35页 |
| ·聚合反应 | 第35页 |
| ·工艺过程 | 第35页 |
| ·TiO_2光催化剂的制备 | 第35-40页 |
| ·实验原理分析 | 第35-36页 |
| ·TiO_2的溶胶—凝胶法制备 | 第36-37页 |
| ·工艺条件的优化 | 第37-38页 |
| ·加水量对胶凝时间的影响 | 第38-39页 |
| ·pH值对胶凝时间的影响 | 第39页 |
| ·乙醇加入量对胶凝时间的影响 | 第39-40页 |
| ·TiO_2的溶胶—微波法制备 | 第40页 |
| ·不同条件下所得TiO_2的构相 | 第40-43页 |
| ·TiO_2的形貌及组成 | 第43-44页 |
| ·紫外—可见光谱分析(UV-Vis) | 第44-45页 |
| ·傅里叶变换红外光谱分析(FT-IR) | 第45-46页 |
| ·光催化性能测试 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 复合电镀制备负载型TiO_2光催化材料 | 第50-61页 |
| ·镀层的制备 | 第50-52页 |
| ·工艺条件对镀层性能的影响 | 第52-55页 |
| ·阴极电流密度的影响 | 第52-53页 |
| ·镀液中TiO_2质量浓度的影响 | 第53-54页 |
| ·镀液pH的影响 | 第54页 |
| ·表面活性剂的影响 | 第54-55页 |
| ·工艺条件的优化 | 第55-57页 |
| ·镀层性能 | 第57-58页 |
| ·表面形貌 | 第57页 |
| ·镀层组成 | 第57-58页 |
| ·光催化性能测试 | 第58-59页 |
| ·不同分散剂样品 | 第58页 |
| ·不同电镀样品的比较 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 化学镀制备负载型TiO_2光催化材料 | 第61-69页 |
| ·化学镀镍—磷概述 | 第61-62页 |
| ·化学镀镍—磷的机理 | 第61-62页 |
| ·镀液成分 | 第62页 |
| ·实验过程 | 第62-64页 |
| ·材料的形貌 | 第64-65页 |
| ·镀液中TiO_2加入量探讨 | 第65页 |
| ·镀液的pH值和温度 | 第65-66页 |
| ·光催化性能测试 | 第66-67页 |
| ·不同样品对活性黑GR的降解 | 第66-67页 |
| ·复合镀层中P元素对光催化活性的影响 | 第67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
