双靶直流反应磁控共溅射沉积TiAlN薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·真空镀膜技术 | 第11-13页 |
| ·真空镀膜技术的发展 | 第11-12页 |
| ·真空镀膜技术的应用 | 第12-13页 |
| ·硬质薄膜的发展 | 第13-15页 |
| ·薄膜生长机理 | 第15-17页 |
| ·临界核的形成 | 第15页 |
| ·岛的成核和长大 | 第15-16页 |
| ·沟道薄膜的形成 | 第16页 |
| ·连续膜的形成 | 第16-17页 |
| ·TiN薄膜的性能和制备方法 | 第17-19页 |
| ·TiN薄膜的性能 | 第17-18页 |
| ·TiN薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·TiAlN薄膜的性能及发展方向 | 第19-22页 |
| ·TiAlN薄膜的性能 | 第19-21页 |
| ·TiAlN薄膜的应用及发展方向 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-23页 |
| 第2章 实验原理与设备 | 第23-31页 |
| ·实验原理 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| ·反应溅射原理 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25页 |
| ·基体的前处理 | 第25-27页 |
| ·过渡层的选择 | 第27页 |
| ·实验流程 | 第27页 |
| ·薄膜性能表征 | 第27-31页 |
| ·XRD物相分析 | 第27-28页 |
| ·表面形貌分析 | 第28页 |
| ·能量色散谱分析 | 第28页 |
| ·显微硬度测试 | 第28-29页 |
| ·中性盐雾试验 | 第29-30页 |
| ·耐磨性测试 | 第30-31页 |
| 第3章 TiAlN薄膜的制备及结果分析 | 第31-55页 |
| ·TiN薄膜的制备 | 第31页 |
| ·TiN薄膜的性能测试 | 第31-35页 |
| ·TiN薄膜的颜色分析 | 第31页 |
| ·TiN薄膜的表面形貌 | 第31-32页 |
| ·TiN薄膜的硬度 | 第32-33页 |
| ·TiN薄膜的耐磨性 | 第33-35页 |
| ·最佳工艺条件下TiN薄膜的XRD分析 | 第35页 |
| ·TiAlN薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·N_2分压对TiAlN薄膜性能的影响 | 第36-44页 |
| ·N_2分压对TiAlN薄膜成分的影响 | 第36-39页 |
| ·N_2分压对TiAlN薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·N_2分压对薄膜厚度的影响 | 第40-41页 |
| ·N_2分压对TiAlN薄膜显微硬度的影响 | 第41-42页 |
| ·N_2分压对TiAlN薄膜耐蚀性的影响 | 第42-44页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜性能的影响 | 第44-48页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜成分的影响 | 第44-45页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜表面形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜显微硬度的影响 | 第47页 |
| ·Al靶功率对TiAlN薄膜耐蚀性的影响 | 第47-48页 |
| ·基体温度对TiAlN薄膜性能的影响 | 第48-52页 |
| ·不同基体温度下TiAlN薄膜的XRD分析 | 第48-49页 |
| ·基体温度对TiAlN薄膜的微观形貌影响 | 第49-50页 |
| ·基体温度对TiAlN薄膜显微硬度的影响 | 第50-51页 |
| ·基体温度对TiAlN薄膜耐蚀性的影响 | 第51-52页 |
| ·TiAlN薄膜耐磨性研究 | 第52-55页 |
| 第4章 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
