多目标遗传算法及其在电解铜过程中的应用
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
·进化算法的发展概况 | 第10-12页 |
·传统的优化算法 | 第10-11页 |
·智能优化算法 | 第11-12页 |
·遗传算法的发展 | 第12-14页 |
·电解铜的生产概述 | 第14-17页 |
·工艺过程 | 第14-15页 |
·生产原理 | 第15-17页 |
·本文的主要工作 | 第17-20页 |
第二章 多目标遗传算法 | 第20-36页 |
·多目标优化问题的基本概念 | 第20-22页 |
·Pareto解的概念 | 第20-21页 |
·pareto解的关系 | 第21-22页 |
·Pareto前沿(Pareto Front) | 第22页 |
·遗传算法的研究与设计 | 第22-31页 |
·编码方式 | 第24-25页 |
·适应度函数 | 第25-28页 |
·精英保持策略 | 第28页 |
·遗传操作 | 第28-31页 |
·典型多目标遗传算法的介绍 | 第31-35页 |
·非Pareto支配法 | 第32页 |
·Pareto支配法 | 第32-35页 |
·本章小节 | 第35-36页 |
第三章 改进的多目标遗传算法及多目标决策 | 第36-54页 |
·交互式非劣分层的基本原理 | 第36-39页 |
·NSGA-Ⅱ的非劣分层思想 | 第37-38页 |
·交互式分层方式的实现 | 第38-39页 |
·非支配解集 | 第39-40页 |
·拥挤距 | 第40-42页 |
·约束处理 | 第42-43页 |
·算法的仿真研究 | 第43-47页 |
·两个目标函数的优化问题 | 第43-45页 |
·三个目标函数的优化问题 | 第45-47页 |
·多目标的决策问题 | 第47-52页 |
·伪权向量法 | 第47-49页 |
·理想点法(TOPSIS) | 第49-51页 |
·改进的理想点法 | 第51-52页 |
·本章小节 | 第52-54页 |
第四章 铜电解优化模型的分析 | 第54-70页 |
·江西电解铜的工艺 | 第54-55页 |
·影响电解的因素 | 第55-61页 |
·第一类杂质-负电性杂质 | 第55-58页 |
·第二类杂质-砷、锑、铋 | 第58-59页 |
·第三类杂质-银、金和铂族元素 | 第59-60页 |
·添加剂的加入及其作用 | 第60-61页 |
·电解液温度的控制 | 第61页 |
·优化模型的研究与实现 | 第61-67页 |
·电解液循环过程中影响铜酸成分的主要过程变量 | 第63-64页 |
·其它综合因素的影响 | 第64页 |
·铜酸离子软测量模型 | 第64-65页 |
·电能消耗目标函数的设计 | 第65-67页 |
·约束条件 | 第67页 |
·本章小节 | 第67-70页 |
第五章 多目标遗传算法在铜电解优化模型中的应用 | 第70-76页 |
·优化模型的仿真测试 | 第70-72页 |
·优化程序仿真 | 第72-73页 |
·结果分析与决策 | 第73-74页 |
·本章小节 | 第74-76页 |
第六章 结论与工作展望 | 第76-78页 |
·结论 | 第76页 |
·工作展望 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第84页 |