| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-39页 |
| §1.1 薄膜的生长及结构 | 第10-15页 |
| ·薄膜生长的三种基本模式 | 第10-12页 |
| ·薄膜生长的计算机模拟 | 第12-14页 |
| ·薄膜的结构 | 第14-15页 |
| §1.2 薄膜的内应力 | 第15-18页 |
| ·内应力定义、分类及其测量 | 第15-16页 |
| ·内应力的起因 | 第16-18页 |
| §1.3 磁性薄膜的磁各向异性和交换偏置 | 第18-21页 |
| ·磁性薄膜的磁各向异性 | 第18-19页 |
| ·交换偏置 | 第19-21页 |
| §1.4 液相基底表面金属薄膜的研究 | 第21-32页 |
| ·生长机理及其计算机模拟 | 第22-27页 |
| ·表面形貌及其物理特性 | 第27-31页 |
| ·液相基底表面铁薄膜的磁特性 | 第31-32页 |
| §1.5 本文研究内容及其意义 | 第32-35页 |
| 参考文献 | 第35-39页 |
| 第二章 硅油基底表面铜薄膜的形成机理及其微结构 | 第39-57页 |
| §2.1 引言 | 第39-40页 |
| §2.2 实验方法 | 第40-41页 |
| §2.3 实验结果和分析 | 第41-53页 |
| ·液相基底表面铜原子分形凝聚体的形貌 | 第41-45页 |
| ·铜薄膜的微结构以及物理特性 | 第45-51页 |
| ·液相基底表面铜薄膜形成机理的讨论 | 第51-53页 |
| §2.4 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第三章 硅油基底表面连续铜薄膜的有序结构及内应力分布 | 第57-82页 |
| §3.1 引言 | 第57-58页 |
| §3.2 实验方法 | 第58-59页 |
| §3.3 实验结果和分析 | 第59-77页 |
| ·连续铜薄膜中的带状有序结构 | 第59-63页 |
| ·带状有序结构的生长特性 | 第63-70页 |
| ·二次沉积法 | 第70-71页 |
| ·带状有序结构的形成机理 | 第71-77页 |
| §3.4 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 第四章 粗糙铁薄膜的磁特性 | 第82-102页 |
| §4.1 引言 | 第82-83页 |
| §4.2 实验方法 | 第83-84页 |
| §4.3 实验结果和分析 | 第84-98页 |
| ·铁薄膜的表面微结构 | 第84-86页 |
| ·矫顽力和热剩磁 | 第86-89页 |
| ·磁各向异性 | 第89-90页 |
| ·零场冷却和场冷却 | 第90-96页 |
| ·交换偏置 | 第96-98页 |
| §4.4 结论 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-102页 |
| 附录 A:实验材料的主要物理参数 | 第102-103页 |
| 附录 B:原子力显微镜工作原理 | 第103-105页 |
| 附录 C:已发表和待发表的论文 | 第105-106页 |
| 附录 D:学术会议论文 | 第106-107页 |
| 附录 E:参与科研项目 | 第107-108页 |
| 致谢 | 第108页 |