| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 前言 | 第9-28页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·分子印迹技术概述 | 第9-20页 |
| ·分子印迹技术作用的基本原理 | 第9-10页 |
| ·分子印迹技术的分类 | 第10-12页 |
| ·分子印迹聚合物的合成及优化 | 第12-15页 |
| ·分子印迹聚合物的形态 | 第15-16页 |
| ·分子印迹聚合物的应用 | 第16-19页 |
| ·分子印迹技术存在的问题及发展趋势 | 第19-20页 |
| ·香兰素概述 | 第20-26页 |
| ·香兰素的结构和性质 | 第20-21页 |
| ·香兰素的传统生产方法 | 第21-23页 |
| ·香兰素的生物合成 | 第23-24页 |
| ·香兰素的提取与精制 | 第24-25页 |
| ·香兰素的检测 | 第25页 |
| ·香兰素的应用 | 第25-26页 |
| ·本课题的研究目的和意义 | 第26-28页 |
| ·研究背景 | 第26页 |
| ·研究目的及意义 | 第26-27页 |
| ·主要研究内容 | 第27-28页 |
| 2 材料与方法 | 第28-39页 |
| ·实验材料 | 第28-29页 |
| ·实验仪器 | 第28页 |
| ·主要试剂 | 第28-29页 |
| ·功能单体的合成 | 第29-35页 |
| ·功能单体(a)的合成 | 第29-30页 |
| ·功能单体(b)的合成 | 第30-31页 |
| ·功能单体(c)的合成 | 第31页 |
| ·功能单体(d)的合成 | 第31-32页 |
| ·功能单体(e)的合成 | 第32页 |
| ·功能单体(f)的合成 | 第32页 |
| ·功能单体(g)的合成 | 第32页 |
| ·功能单体(h)的合成 | 第32-33页 |
| ·功能单体(i)的合成 | 第33页 |
| ·功能单体(j)的合成 | 第33-34页 |
| ·功能单体(k)的合成 | 第34页 |
| ·功能单体(l)的合成 | 第34-35页 |
| ·印迹聚合物的评价 | 第35-36页 |
| ·香兰素标准曲线的绘制 | 第35页 |
| ·阿魏酸标准曲线的绘制 | 第35页 |
| ·发酵液中香兰素浓度的测定 | 第35页 |
| ·目标分子的洗脱 | 第35-36页 |
| ·聚合物的吸附效果 | 第36页 |
| ·香兰素分子印迹聚合物的制备 | 第36-38页 |
| ·功能单体的选择 | 第36页 |
| ·交联剂的选择 | 第36-37页 |
| ·功能单体比例的选择 | 第37页 |
| ·交联剂比例的选择 | 第37页 |
| ·引发剂的选择 | 第37页 |
| ·溶剂的选择 | 第37-38页 |
| ·印迹聚合物的静态吸附实验 | 第38-39页 |
| ·pH对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第38页 |
| ·吸附时间对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第38页 |
| ·印迹聚合物加入量对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第38页 |
| ·温度对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第38-39页 |
| 3 结果与讨论 | 第39-53页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第39-41页 |
| ·香兰素标准曲线的绘制 | 第39-40页 |
| ·阿魏酸标准曲线的绘制 | 第40-41页 |
| ·发酵液中香兰素标准曲线的绘制 | 第41页 |
| ·香兰素分子印迹聚合物的制备 | 第41-50页 |
| ·功能单体的选择 | 第41-46页 |
| ·交联剂的选择 | 第46-47页 |
| ·功能单体比例的选择 | 第47页 |
| ·交联剂比例的选择 | 第47-48页 |
| ·引发剂的选择 | 第48-49页 |
| ·溶剂的选择 | 第49-50页 |
| ·香兰素分子印迹聚合物(MIPs-d)静态吸附效果 | 第50-53页 |
| ·pH对香兰素分子印迹聚合物吸附量的影响 | 第50页 |
| ·吸附时间对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第50-51页 |
| ·印迹聚合物加入量对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第51页 |
| ·温度对印迹聚合物吸附容量的影响 | 第51-53页 |
| 4 结论 | 第53-54页 |
| 5 展望 | 第54-55页 |
| 6 参考文献 | 第55-63页 |
| 7 攻读硕士期间发表论文情况 | 第63-64页 |
| 8 致谢 | 第64页 |