溶胶—凝胶法制备ITO薄膜及其性质研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1. 引言 | 第10-14页 |
| ·本研究工作的背景及意义 | 第10页 |
| ·ITO 薄膜的研究进展及现状 | 第10-12页 |
| ·目前存在的问题 | 第12-13页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第13-14页 |
| 2. ITO 薄膜的制备、结构及其表征 | 第14-26页 |
| ·ITO 薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·PVD沉积法 | 第14页 |
| ·CVD 沉积法 | 第14-15页 |
| ·喷雾热分解法 | 第15页 |
| ·溶胶--凝胶(Sol-Gel)法 | 第15-16页 |
| ·ITO 薄膜材料的结构 | 第16-17页 |
| ·ITO 薄膜的电学性质表征 | 第17-21页 |
| ·ITO 透明导电膜的导电机理 | 第17-19页 |
| ·ITO 透明导电膜方块电阻的定义 | 第19-21页 |
| ·ITO 薄膜的光学性质表征 | 第21-26页 |
| ·可见光透过机理 | 第21-23页 |
| ·ITO 薄膜的透过率 | 第23-26页 |
| 3. 实验 | 第26-30页 |
| ·试验所用试剂及仪器 | 第26页 |
| ·ITO 薄膜的制备工艺过程 | 第26-28页 |
| ·基体材料的预处理 | 第26-27页 |
| ·前驱液的制备 | 第27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·ITO 薄膜材料的表征方法 | 第28-30页 |
| ·X-射线粉末衍射相分析 | 第28页 |
| ·紫外可见光分光光度计透射谱分析 | 第28-29页 |
| ·四探针测阻仪对方块电阻的分析 | 第29页 |
| ·原子力显微镜对薄膜的分析 | 第29-30页 |
| 4. 实验结果与讨论 | 第30-49页 |
| ·ITO薄膜微结构—X射线衍射测试结果 | 第32-38页 |
| ·不同热处理温度的x-射线衍射表征 | 第32-34页 |
| ·不同热处理时间的x-射线衍射表征 | 第34-36页 |
| ·不同掺锡量的x-射线衍射表征 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| ·薄膜光学性能—透射谱测试结果 | 第38-41页 |
| ·热处理温度对薄膜的光学特性影响 | 第38-39页 |
| ·热处理时间对薄膜的光学特性影响 | 第39-40页 |
| ·掺杂量对薄膜的光学特性影响 | 第40-41页 |
| ·镀膜层数对薄膜的光学特性影响 | 第41页 |
| ·小结 | 第41页 |
| ·薄膜电学性能—方块电阻测试结果 | 第41-45页 |
| ·热处理温度对薄膜的电学特性影响 | 第41-42页 |
| ·热处理时间对薄膜的电学特性影响 | 第42-43页 |
| ·掺杂量对薄膜的电学特性影响 | 第43-44页 |
| ·镀膜层数对薄膜的电学特性影响 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| ·ITO薄膜形貌—原子力显微镜测试结果 | 第45-49页 |
| ·不同退火时间下的ITO薄膜的AFM图象 | 第45-46页 |
| ·不同退火温度下的ITO薄膜的AFM图象 | 第46-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 5. 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
