| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-16页 |
| ·课题背景及意义 | 第13-15页 |
| ·课题研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 TiO_2薄膜的结构与应用 | 第16-27页 |
| ·TiO_2薄膜的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第17-20页 |
| ·电子领域的应用 | 第18页 |
| ·光学领域的运用 | 第18-20页 |
| ·其他用途 | 第20页 |
| ·TiO_2薄膜的一般制备方法 | 第20-25页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第20-22页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第22-23页 |
| ·液相沉积法 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第24-25页 |
| ·热分解法 | 第25页 |
| ·喷雾热解法 | 第25页 |
| ·TiO_2薄膜产生光电流的机理及其应用前景 | 第25-27页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的制备与表征 | 第27-44页 |
| ·TiO_2薄膜的制备及磁控溅射原理 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射原理 | 第27-28页 |
| ·实验设备主要技术参数 | 第28页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·TiO_2薄膜的表征 | 第29-31页 |
| ·晶体结构 | 第29-30页 |
| ·形貌分析 | 第30页 |
| ·光学性质 | 第30-31页 |
| ·衬底温度对TiO_2薄膜性能的影响 | 第31-34页 |
| ·衬底温度对薄膜结构的影响 | 第31-32页 |
| ·衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·衬底温度对薄膜透过率的影响 | 第33-34页 |
| ·氧分压对TiO_2薄膜性能的影响 | 第34-37页 |
| ·退火温度对TiO_2薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜性能的影响 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第四章 TiO_2薄膜紫外探测器的制备及其光电性能 | 第44-53页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·TiO_2薄膜紫外探测器的制备与表征 | 第45-46页 |
| ·TiO_2薄膜的紫外探测器的光电性质 | 第46-48页 |
| ·ZnO/TiO_2薄膜紫外探测器的制备 | 第48-49页 |
| ·ZnO/TiO_2薄膜的紫外探测器的光电性质 | 第49-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第59页 |
| 作者简介 | 第59-60页 |
| 导师简介 | 第60-61页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第61-62页 |