| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-12页 |
| 1.1.1 纳米科技起源 | 第11页 |
| 1.1.2 纳米科技研究领域 | 第11-12页 |
| 1.2 单细胞观测技术 | 第12-15页 |
| 1.2.1 光学显微镜 | 第13页 |
| 1.2.2 电子显微镜 | 第13-14页 |
| 1.2.3 扫描探针显微镜 | 第14-15页 |
| 1.3 扫描离子电导显微镜的提出及发展 | 第15-18页 |
| 1.4 本文的研究目的及意义 | 第18-19页 |
| 1.5 本文结构安排 | 第19-21页 |
| 第2章 SICM原理及研究基础 | 第21-31页 |
| 2.1 SICM原理 | 第21-24页 |
| 2.1.1 S1CM成像原理 | 第21-22页 |
| 2.1.2 SICM电路模型 | 第22-24页 |
| 2.2 自制SICM系统结构 | 第24-25页 |
| 2.3 SICM成像模式 | 第25-28页 |
| 2.3.1 直流模式 | 第26页 |
| 2.3.2 距离调制模式 | 第26-27页 |
| 2.3.3 跳跃模式 | 第27页 |
| 2.3.4 同相电压调制模式 | 第27-28页 |
| 2.4 电容补偿方法用于同相电压调制模式 | 第28-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 反相电压调制信号优化方法 | 第31-45页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 反相电压调制方法 | 第31-34页 |
| 3.2.1 反相电压调制方法原理及实现 | 第31-33页 |
| 3.2.2 信噪比提升验证 | 第33-34页 |
| 3.3 反相电压调制方法优点验证 | 第34-42页 |
| 3.3.1 分辨率提升 | 第34-37页 |
| 3.3.2 扫描速度提升 | 第37-39页 |
| 3.3.3 工作点位置优化 | 第39-41页 |
| 3.3.4 调制频率优化 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-45页 |
| 第4章 SICM的自适应距离控制方法 | 第45-53页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 SICM图像“拖尾现象”原理分析 | 第45-47页 |
| 4.2.1 实验现象分析 | 第45-46页 |
| 4.2.2 “拖尾现象”原理分析 | 第46页 |
| 4.2.3 扫描速度对“拖尾”现象的影响 | 第46-47页 |
| 4.3 基于先验知识的自适应控制方法 | 第47-50页 |
| 4.3.1 下降沿补偿函数模型的建立 | 第47-48页 |
| 4.3.2 基于先验知识的自适应PID控制方法 | 第48-49页 |
| 4.3.3 电流及距离震荡保护 | 第49-50页 |
| 4.3.4 控制算法实现流程 | 第50页 |
| 4.4 实验验证 | 第50-52页 |
| 4.4.1 控制算法动态特性分析 | 第50-51页 |
| 4.4.2 行扫描频率0.5Hz条件下扫描成像结果对比 | 第51-52页 |
| 4.4.3 行扫描频率2Hz条件下扫描成像结果对比 | 第52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 正交电压调制模式研究 | 第53-63页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 完整电路模型改进 | 第53-57页 |
| 5.3 正交电压调制模式实现方法及成像 | 第57-59页 |
| 5.3.1 新模式实现方法 | 第57-58页 |
| 5.3.2 成像验证 | 第58-59页 |
| 5.4 正交电压调制模式优点分析 | 第59-61页 |
| 5.4.1 提高SICM横向分辨率 | 第59-60页 |
| 5.4.2 增加调制频率 | 第60-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71页 |