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纳米结构黑镍薄膜的电化学制备及其相关行为研究

摘要第1-10页
ABSTRACT第10-12页
第一章 绪论第12-33页
   ·前言第12-13页
   ·纳米材料的基本特性第13-18页
     ·量子效应第13-14页
     ·小尺寸效应第14-17页
     ·表面和接口效应第17页
     ·宏观量子隧道效应第17-18页
   ·制备纳米材料的方法第18-21页
     ·化学气相沉积法第18-19页
     ·液相化学合成法第19-20页
     ·固相法第20-21页
   ·国内外镀黑镍发展概况圈第21-26页
     ·黑镍的发展概况第22-24页
     ·黑镍层的应用第24页
     ·黑镍镀层在应用中的优缺点第24-25页
     ·镀黑镍层后处理第25-26页
   ·本课题的研究目的、意义和研究内容第26-27页
     ·目的和意义第26页
     ·研究内容第26-27页
 本章参考文献第27-33页
第二章 实验内容与测试方法第33-39页
   ·化学试剂和试验仪器第33-34页
     ·试验用化学试剂及规格第33-34页
     ·实验仪器第34页
   ·镀前的准备工作第34-36页
     ·镀液的配置第34-35页
     ·电极的处理第35-36页
   ·试验方法及装置第36页
   ·测试方法第36-38页
     ·表面形貌观测第36-37页
     ·电化学测试方法第37-38页
 本章参考文献第38-39页
第三章 纳米黑镍薄膜的电沉积工艺研究第39-52页
   ·引言第39页
   ·主要电沉积参数对纳米黑镍薄膜结构及颜色的影响第39-47页
     ·电流密度的影响第39-42页
     ·搅拌速度的影响第42-44页
     ·温度的影响第44-45页
     ·溶液pH的影响第45-46页
     ·时间的影响第46-47页
   ·优化的纳米结构黑镍薄膜的表征第47-49页
   ·本章小结第49-51页
 本章参考文献第51-52页
第四章 纳米结构黑镍薄膜的电沉积机理研究第52-71页
   ·引言第52页
   ·试验部分第52-53页
     ·循环伏安测试(CV)第53页
     ·计时安培测试(CHR)第53页
     ·电化学阻抗测试(EIS)第53页
   ·结果与讨论第53-67页
     ·循环伏安法分析第53-55页
     ·计时安培分析第55-60页
     ·电化学阻抗谱分析第60-67页
   ·本章小结第67-69页
 本章参考文献第69-71页
第五章 纳米黑镍薄膜的腐蚀行为的研究第71-82页
   ·引言第71页
   ·试验方法第71-72页
     ·样品的制备第71页
     ·电化学测试第71-72页
   ·试验结果与讨论第72-80页
   ·本章小结第80-81页
 本章参考文献第81-82页
第六章 总结与展望第82-85页
   ·总结第82-84页
   ·工作展望第84-85页
致谢第85-87页
攻读硕士学位期间发表的论文第87页

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