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外加电场对等离子体改性超滤膜的协同研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
1 绪论第10-20页
    1.1 超滤技术第10-11页
        1.1.1 超滤技术简介第10页
        1.1.2 超滤技术特点第10-11页
    1.2 超滤膜污染第11-13页
        1.2.1 概述及分类第11-12页
        1.2.2 超滤膜污染影响因素第12-13页
    1.3 低温等离子体技术第13-15页
        1.3.1 低温等离子体概述第13页
        1.3.2 低温等离子体的产生第13-14页
        1.3.3 等离子体改性超滤膜第14-15页
    1.4 电磁场对等离子体的作用第15-16页
        1.4.1 外加电场对等离子体的影响第15页
        1.4.2 外加磁场对等离子体的影响第15-16页
    1.5 等离子体诊断第16-18页
        1.5.1 等离子体的特征参量第16-17页
        1.5.2 等离子体诊断方法第17-18页
    1.6 本课题提出的意义第18-19页
    1.7 本课题的主要研究内容第19-20页
2 实验部分第20-30页
    2.1 实验材料第20页
    2.2 实验仪器装置及试剂第20-21页
    2.3 外加电场协同等离子体改性实验第21-23页
        2.3.1 等离子体放电装置第21页
        2.3.2 外加径向电场第21-22页
        2.3.3 外加电场协同等离子体改性第22-23页
    2.4 超滤膜亲水性能测试第23-24页
    2.5 PSF超滤膜通量测定及性能研究第24-27页
        2.5.1 膜通量测试方法第24-25页
        2.5.2 截留率测试方法第25-26页
        2.5.3 评价指标第26-27页
    2.6 扫描电子显微镜(SEM)第27页
    2.7 等离子体诊断第27-30页
        2.7.1 发射光谱法第27-28页
        2.7.2 Langmuir探针第28-30页
3 外加电场对等离子体改性超滤膜的协同作用第30-38页
    3.1 等离子体改性条件对接触角的影响第30-32页
        3.1.1 放电功率第30-31页
        3.1.2 处理时间第31页
        3.1.3 体系压强第31-32页
    3.2 外加电场协同等离子体改性条件对接触角的影响第32-35页
        3.2.1 电场位置第32-33页
        3.2.2 电压第33-34页
        3.2.3 处理功率第34页
        3.2.4 处理时间第34-35页
    3.3 小结第35-38页
4 PSF超滤膜的抗污染性能研究第38-46页
    4.1 超滤膜通量第38-40页
        4.1.1 纯水通量分析第38-39页
        4.1.2 BSA通量分析第39-40页
        4.1.3 过滤BSA后纯水通量分析第40页
    4.2 超滤膜分离性能和抗污染能力第40-42页
        4.2.1 PSF超滤膜通量衰减率的变化第41页
        4.2.2 PSF超滤膜污染率的变化第41-42页
        4.2.3 PSF超滤膜截留率的变化第42页
    4.3 SEM表征第42-43页
    4.4 超滤膜的渗透性研究第43-45页
    4.5 小结第45-46页
5 低温等离子体的诊断研究第46-60页
    5.1 发射光谱法诊断第46-53页
        5.1.1 等离子体改性发射光谱第46-47页
        5.1.2 外加电场协同等离子体改性发射光谱第47-49页
        5.1.3 电子温度的计算第49-53页
    5.2 Langmuir探针诊断第53-57页
        5.2.1 未加电场的等离子体电子密度第54-55页
        5.2.2 外加电场下等离子体电子密度第55-57页
    5.3 小结第57-60页
6 结论第60-62页
参考文献第62-68页
攻读学位期间发表论文清单第68-70页
致谢第70页

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