| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstrsct | 第4-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-17页 |
| 1.1 镁合金的特点及应用 | 第9-10页 |
| 1.1.1 镁及镁合金 | 第9页 |
| 1.1.2 镁合金的应用 | 第9-10页 |
| 1.2 镁合金的耐蚀性 | 第10页 |
| 1.3 镁合金的表面改性 | 第10-12页 |
| 1.3.1 化学转化膜 | 第10页 |
| 1.3.2 电镀化学镀 | 第10-11页 |
| 1.3.3 阳极氧化 | 第11页 |
| 1.3.4 微弧氧化 | 第11页 |
| 1.3.5 离子注入 | 第11-12页 |
| 1.3.6 气相沉积 | 第12页 |
| 1.4 磁控溅射技术 | 第12-13页 |
| 1.4.1 磁控溅射原理 | 第12页 |
| 1.4.2 磁控溅射技术的特点 | 第12-13页 |
| 1.5 镁合金表面常见的磁控溅射膜及其性能 | 第13-14页 |
| 1.6 磁控溅射氮化铝膜的相关研究 | 第14-15页 |
| 1.6.1 溅射功率 | 第14页 |
| 1.6.2 温度 | 第14-15页 |
| 1.6.3 气压 | 第15页 |
| 1.6.4 氮气浓度 | 第15页 |
| 1.7 镁合金磁控溅射氮化铝研究的不足之处及本课题研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 实验方法 | 第17-22页 |
| 2.1 实验材料 | 第17-18页 |
| 2.1.1 主要实验材料 | 第17页 |
| 2.1.2 辅助实验材料 | 第17-18页 |
| 2.2 实验设备 | 第18-19页 |
| 2.2.1 磁控溅射设备 | 第18页 |
| 2.2.2 其他设备 | 第18-19页 |
| 2.3 实验方法 | 第19页 |
| 2.4 磁控溅射镀膜过程 | 第19-20页 |
| 2.5 氮化铝膜层性能检测分析 | 第20-22页 |
| 2.5.1 硬度检测 | 第20页 |
| 2.5.2 电化学腐蚀 | 第20页 |
| 2.5.3 形貌观察及截面分析 | 第20页 |
| 2.5.4 膜厚检测 | 第20-21页 |
| 2.5.5 粗糙度检测 | 第21页 |
| 2.5.6 结合力检测 | 第21-22页 |
| 第三章 氮化铝膜磁控溅射工艺研究 | 第22-33页 |
| 3.1 正交试验设计 | 第22-23页 |
| 3.2 工艺参数对性能指标的影响 | 第23-30页 |
| 3.2.1 影响膜层硬度的工艺参数分析 | 第24-25页 |
| 3.2.2 影响膜层耐蚀性能的工艺参数分析 | 第25-26页 |
| 3.2.3 影响膜层与基底结合力的工艺参数分析 | 第26-27页 |
| 3.2.4 影响膜层厚度的工艺参数分析 | 第27-28页 |
| 3.2.5 影响膜层表面粗糙度的工艺参数分析 | 第28-29页 |
| 3.2.6 各指标关联性分析 | 第29-30页 |
| 3.3 正交试验结果综合分析 | 第30-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-33页 |
| 第四章 磁控溅射工艺对氮化铝膜层性能的影响分析 | 第33-52页 |
| 4.1 实验方案 | 第33-34页 |
| 4.2 膜层硬度单因素实验结果与分析 | 第34-43页 |
| 4.2.1 工艺参数对膜层硬度的影响 | 第34-36页 |
| 4.2.2 工艺参数对膜层的影响 | 第36-41页 |
| 4.2.3 膜层硬度变化原因分析 | 第41-43页 |
| 4.3 膜层耐蚀性单因素实验结果与分析 | 第43-50页 |
| 4.3.1 工艺参数对膜层耐蚀性的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.2 工艺参数对膜层腐蚀形貌的影响 | 第45-47页 |
| 4.3.3 工艺参数对膜层粗糙度的影响 | 第47-49页 |
| 4.3.4 膜层耐蚀性变化原因分析 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57页 |