石墨烯电光调制特性及器件研究
摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第13-31页 |
1.1 本论文工作背景与意义 | 第13-14页 |
1.2 基于传统电光材料的光调制器概论 | 第14-17页 |
1.2.1 光调制器的工作原理 | 第14页 |
1.2.2 传统光调制器的分类及研究动态 | 第14-17页 |
1.3 基于石墨烯光调制器的国内外研究现状 | 第17-29页 |
1.3.1 吸收型石墨烯光调制器 | 第19-24页 |
1.3.2 M-Z型石墨烯电光强度调制器 | 第24-25页 |
1.3.3 相位型石墨烯光调制器 | 第25-27页 |
1.3.4 环形腔型石墨烯光调制器 | 第27-29页 |
1.4 本论文主要研究内容及章节安排 | 第29-31页 |
第二章 石墨烯的基本性质及应用 | 第31-46页 |
2.1 石墨烯的发现 | 第31-33页 |
2.2 石墨烯材料的电子能带结构与性质 | 第33-34页 |
2.3 石墨烯材料的制备及表征 | 第34-40页 |
2.3.1 制备方法 | 第34-35页 |
2.3.2 表征方法 | 第35-40页 |
2.4 石墨烯的电光特性 | 第40-44页 |
2.4.1 石墨烯的光吸收特性 | 第40-41页 |
2.4.2 石墨烯电光调制特性 | 第41-44页 |
2.5 石墨烯的应用简介 | 第44-45页 |
2.6 本章小结 | 第45-46页 |
第三章 基于石墨烯光调制器的结构设计及仿真 | 第46-85页 |
3.1 光波导设计分析方法 | 第46-52页 |
3.1.1 有效折射率法 | 第46-47页 |
3.1.2 光束传播法 | 第47-50页 |
3.1.3 时域有限差分法 | 第50-52页 |
3.1.4 有限元法 | 第52页 |
3.2 光调制器的主要参数 | 第52-54页 |
3.3 集总型石墨烯光调制器 | 第54-76页 |
3.3.1 四层石墨烯吸收型光调制器 | 第55-64页 |
3.3.2 双层石墨烯相位光调制器 | 第64-69页 |
3.3.3 偏振不敏感石墨烯光调制器 | 第69-76页 |
3.4 行波型石墨烯光调制器 | 第76-84页 |
3.4.1 微带线行波光调制器 | 第76-80页 |
3.4.2 共面波导行波光调制器 | 第80-84页 |
3.5 本章小结 | 第84-85页 |
第四章 制备工艺流程制定及加工版图设计 | 第85-105页 |
4.1 总体加工实现方案 | 第85-86页 |
4.2 石墨烯光调制器结构选定 | 第86-88页 |
4.2.1 集总型石墨烯光调制器 | 第86-87页 |
4.2.2 石墨烯微带线行波光调制器 | 第87-88页 |
4.3 工艺实现流程制定 | 第88-94页 |
4.4 加工版图设计 | 第94-104页 |
4.4.1 集总型光调制器 | 第95-100页 |
4.4.2 行波型光调制器 | 第100-104页 |
4.5 本章小结 | 第104-105页 |
第五章 器件制备和测试 | 第105-129页 |
5.1 石墨烯材料的准备和转移 | 第105-108页 |
5.2 石墨烯-金属接触 | 第108-112页 |
5.2.1 传输线结构设计 | 第108-110页 |
5.2.2 实验结果与讨论 | 第110-112页 |
5.3 器件制备 | 第112-122页 |
5.3.1 基片的准备 | 第112-113页 |
5.3.2 光波导刻蚀 | 第113-115页 |
5.3.3 光波导开窗口 | 第115-117页 |
5.3.4 定义第一层石墨烯图案 | 第117页 |
5.3.5 蒸镀第一层金属电极 | 第117-118页 |
5.3.6 定义第二层石墨烯图案 | 第118-119页 |
5.3.7 蒸镀第二层金属电极 | 第119-120页 |
5.3.8 第一层金属电极开窗口 | 第120页 |
5.3.9 裂片解理 | 第120-122页 |
5.4 测试 | 第122-128页 |
5.4.1 集总型调制器波导测试 | 第122-125页 |
5.4.2 行波型调制器微波参数测试 | 第125-128页 |
5.5 改进方案 | 第128页 |
5.6 本章小结 | 第128-129页 |
第六章 总结及展望 | 第129-133页 |
6.1 本论文工作总结 | 第129-131页 |
6.2 本论文主要创新点 | 第131页 |
6.3 对未来工作展望 | 第131-133页 |
致谢 | 第133-134页 |
参考文献 | 第134-145页 |
攻读博士学位期间取得的成果 | 第145-147页 |