中文摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 课题研究背景 | 第10-15页 |
1.2 偏振无关光栅的研究进展 | 第15-16页 |
1.3 本论文的主要工作内容 | 第16-18页 |
第二章 光栅的严格耦合波理论 | 第18-27页 |
2.1 严格耦合波理论概述 | 第18-19页 |
2.2 基于RCWA方法的衍射效率计算 | 第19-24页 |
2.3 基于RCWA方法的透射光栅衍射效率程序编写 | 第24-26页 |
2.4 本章小结 | 第26-27页 |
第三章 熔石英透射式偏振无关光栅的设计 | 第27-44页 |
3.1 不同占空比、空频、槽深下透射光栅的衍射效率计算 | 第27-32页 |
3.2 940lines/mm石英光栅的设计 | 第32-39页 |
3.2.1 矩形槽和梯形槽微结构设计 | 第32-37页 |
3.2.2 光栅的工艺容差分析 | 第37-39页 |
3.3 1440lines/mm石英光栅的设计 | 第39-42页 |
3.4 熔石英偏振无关透射光栅的设计总结 | 第42-44页 |
第四章 双层介质透射式偏振无关光栅的设计 | 第44-54页 |
4.1 TiO_2/SiO_2双层介质透射光栅的设计 | 第44-48页 |
4.2 不同因素对双层介质透射光栅的衍射效率影响 | 第48-52页 |
4.2.1 镀膜厚度的影响 | 第49页 |
4.2.2 薄膜折射率的影响 | 第49-50页 |
4.2.3 刻蚀深度的影响 | 第50-51页 |
4.2.4 光栅槽型的影响 | 第51-52页 |
4.3 本章小结 | 第52-54页 |
第五章 透射光栅实验 | 第54-59页 |
5.1 全息光刻胶光栅记录方法 | 第55-56页 |
5.2 反应离子刻蚀方法 | 第56-57页 |
5.3 实验测量结果 | 第57-59页 |
第六章 总结与展望 | 第59-61页 |
6.1 本论文工作总结 | 第59-60页 |
6.2 工作展望 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-65页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |